[发明专利]微纳米散斑的制备方法和系统有效
| 申请号： | 201410054817.7 | 申请日： | 2014-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN103808440A | 公开（公告）日： | 2014-05-21 |
| 发明（设计）人： | 谢惠民;朱荣华;吴丹 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | G01L1/24 | 分类号： | G01L1/24;G01B11/16;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 张大威 |
| 地址： | 100084 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提出一种微纳米散斑的制备方法和系统，其中，该方法包括以下步骤：生成预设数量的散斑颗粒大小和/或散斑数目不同的数字散斑图，并从中选取至少一幅数字散斑图作为散斑模板；对待处理试件和目标试件的待处理区域进行预处理；将散斑模板导入散斑沉积设备；对待处理试件的待处理区域进行对焦，以获取当前放大倍数下的最优参数组；根据最优参数组调节散斑沉积设备，并根据散斑模板在目标试件的待处理区域沉积散斑。上述方法能够制备高质量微纳米散斑，提升散斑制备的可重复性、无损性和制备速度。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 制备 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种微纳米散斑的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：生成预设数量的散斑颗粒大小和/或散斑数目不同的数字散斑图，并从中选取至少一幅所述数字散斑图作为散斑模板，其中，所述数字散斑图为二值图；对待处理试件和目标试件的待处理区域进行预处理，其中，所述目标试件与所述待处理试件的材质相同；将所述散斑模板导入散斑沉积设备；对所述待处理试件的待处理区域进行对焦，以获取当前放大倍数下的最优参数组；根据所述最优参数组调节所述散斑沉积设备，并根据所述散斑模板在所述目标试件的待处理区域沉积散斑。
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