[发明专利]用于光刻掩模版的快速交换装置有效
| 申请号： | 201410009171.0 | 申请日： | 2009-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN103713475A | 公开（公告）日： | 2014-04-09 |
| 发明（设计）人： | R·G·M·兰斯博根;G·H·哈罗德;R·J·约翰森;H·J·G·范德维登 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王静 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于在真空光刻系统中移动和更换掩模版的方法和设备，且具有最小的颗粒产生和脱气。在本发明的例子中，可旋转交换装置(RED)的第一臂接收用于保持第一掩模版的第一基板。RED的第二臂支撑和缓冲第二基板。第一和第二基板被设置在距离RED的旋转轴线基本上等距的位置上。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 模版 快速 交换 装置 | ||
【主权项】：
一种交换光刻掩模版的方法，所述方法包括以下步骤：(a)在可旋转交换装置的第一臂上接收用于保持第一掩模版的第一基板；和(b)缓冲由所述可旋转交换装置的第二臂支撑的第二基板，其中，所述第一和第二基板被设置在距离所述可旋转交换装置的旋转轴线基本上等距的位置上，其中所述方法还进一步包括步骤：以电机系统来旋转所述可旋转交换装置，其中所述电机系统被密封在真空腔中，使得基本上消除了来自所述电机系统的颗粒污染物和脱气，所述真空腔还包括配置以密封所述可旋转交换装置的波纹管。
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