[发明专利]不平行岛蚀刻在审
| 申请号： | 201380080641.6 | 申请日： | 2013-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN105682780A | 公开（公告）日： | 2016-06-15 |
| 发明（设计）人： | 罗格·A·麦凯;帕特里克·W·萨迪克 | 申请（专利权）人： | 惠普发展公司;有限责任合伙企业 |
| 主分类号： | B01D69/00 | 分类号： | B01D69/00 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 宋颖娉;康泉 |
| 地址： | 美国德*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 蚀刻岛被形成在衬底的第一面和衬底的与第一面不平行的第二面上。衬底的第一面和第二面同时暴露至与蚀刻岛反应的溶液，以同时形成延伸到第一面和第二面内的多孔区域。 | ||
| 搜索关键词： | 平行 蚀刻 | ||
【主权项】：
一种方法，包括：在衬底的第一面和所述衬底的与所述第一面不平行的第二面上形成蚀刻岛；以及将所述衬底的所述第一面和所述第二面同时暴露至与所述蚀刻岛反应的溶液，以同时形成延伸到所述第一面和所述第二面内的多孔区域。
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