[发明专利]用于对工艺腔室的控制气体供应的方法、用于控制对工艺腔室的气体供应的控制器以及设备在审
申请号: | 201380079751.0 | 申请日: | 2013-09-24 |
公开(公告)号: | CN105580103A | 公开(公告)日: | 2016-05-11 |
发明(设计)人: | F·施纳朋伯格;A·赫尔米希;T·科奇;T·德皮施 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;C23C16/455 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 黄嵩泉 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供一种用于控制对工艺腔室(301)的气体供应的方法(200)。此方法(200)包括以下步骤:由在工艺腔室(301)中提供的两个或更多个传感器(35、36、313、314)中的每一个测量(210)气体参数;从所测量的气体参数确定(220)组合的气体参数;以及基于所确定的组合的气体参数来控制(230)对工艺腔室(301)的气体供应。 | ||
搜索关键词: | 用于 工艺 控制 气体 供应 方法 控制器 以及 设备 | ||
【主权项】:
1.一种用于控制对工艺腔室(301)的气体供应的方法(200),所述方法包括以下步骤:由在所述工艺腔室(301)中提供的两个或更多个传感器(35、36、313、314)中的每一个测量(210)气体参数;从所测量的所述气体参数确定(220)组合的气体参数;以及基于所确定的所述组合的气体参数来控制(230)对所述工艺腔室(301)的所述气体供应,其中控制所述气体供应的步骤包括以下步骤:调整所述气体供应,使得由所述两个或更多个传感器(35、36、313、314)中的至少一个测量的所述气体参数对应于所述组合的气体参数。
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