[发明专利]用于对工艺腔室的控制气体供应的方法、用于控制对工艺腔室的气体供应的控制器以及设备在审

专利信息
申请号: 201380079751.0 申请日: 2013-09-24
公开(公告)号: CN105580103A 公开(公告)日: 2016-05-11
发明(设计)人: F·施纳朋伯格;A·赫尔米希;T·科奇;T·德皮施 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32;C23C16/455
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 黄嵩泉
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供一种用于控制对工艺腔室(301)的气体供应的方法(200)。此方法(200)包括以下步骤:由在工艺腔室(301)中提供的两个或更多个传感器(35、36、313、314)中的每一个测量(210)气体参数;从所测量的气体参数确定(220)组合的气体参数;以及基于所确定的组合的气体参数来控制(230)对工艺腔室(301)的气体供应。
搜索关键词: 用于 工艺 控制 气体 供应 方法 控制器 以及 设备
【主权项】:
1.一种用于控制对工艺腔室(301)的气体供应的方法(200),所述方法包括以下步骤:由在所述工艺腔室(301)中提供的两个或更多个传感器(35、36、313、314)中的每一个测量(210)气体参数;从所测量的所述气体参数确定(220)组合的气体参数;以及基于所确定的所述组合的气体参数来控制(230)对所述工艺腔室(301)的所述气体供应,其中控制所述气体供应的步骤包括以下步骤:调整所述气体供应,使得由所述两个或更多个传感器(35、36、313、314)中的至少一个测量的所述气体参数对应于所述组合的气体参数。
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