[发明专利]粒子射线治疗装置及剂量校正系数的设定方法有效
| 申请号： | 201380077190.0 | 申请日： | 2013-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN105263577B | 公开（公告）日： | 2018-05-01 |
| 发明（设计）人： | 原田久;池田昌广;高桥理;伊奈信彦;蒲越虎;岩田高明 | 申请（专利权）人： | 三菱电机株式会社 |
| 主分类号： | A61N5/10 | 分类号： | A61N5/10;G01T7/00;G21K5/04 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 陈力奕 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明包括按每一层对粒子射线进行成形并进行照射的照射装置(10)；实时测量剂量的剂量监视器(12)；基于剂量监视器(12)测量到的测量值(Ci)和按每一层进行设定的剂量校正系数来对每一层的照射剂量进行评价的剂量评价部(70)；基于剂量评价部(70)的评价结果来控制每一层的照射的照射控制部(60)；以及使用通过对设置有校正剂量计(82)的模拟体模(81)照射粒子射线而获得的实际测量剂量校正系数(αi)、来生成剂量校正系数的插补值或推测值(βi)的插补值生成部(74)，插补值生成部(74)对于成为插补值或推测值(βi)的对象的每一层，基于该层的照射条件，进行每一个实际测量剂量校正系数(αi)的加权。 | ||
| 搜索关键词： | 粒子 射线 治疗 装置 剂量 校正 系数 设定 方法 | ||
【主权项】：
一种粒子射线治疗装置，根据从体表起算的深度将照射对象分割为多个层，按每一层对照射剂量进行管理来进行照射，该粒子射线治疗装置的特征在于，包括：照射装置，该照射装置按所述每一层对由加速器提供的粒子射线进行成形并进行照射；剂量监视器，该剂量监视器设置于所述照射装置，实时地对剂量进行测量；剂量评价部，该剂量评价部使用按所述每一层所设定的剂量校正系数(αi、βi)，计算出从所述剂量监视器所测量出的测量值(Ci)提供给所述照射对象的照射剂量，基于所计算出的剂量是否达到了治疗计划所设定的剂量，来对所述每一层的照射剂量进行评价；照射控制装置，该照射控制装置基于所述剂量评价部的评价结果来控制所述每一层的照射量；以及插补值生成部，该插补值生成部使用通过对设置有校正剂量计的模拟体模照射所述粒子射线而获得的实际测量剂量校正系数(αi)，至少对无法获得所述实际测量剂量校正系数(αi)的层生成所述剂量校正系数(αi、βi)的插补值(βi)或推测值，所述插补值生成部对于成为所述插补值(βi)或推测值的对象的每一层，基于该层的照射条件来进行每一个所述实际测量剂量校正系数(αi)的加权。
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