[发明专利]在外部表面上具有表面增强光谱学分析元件的装置有效

专利信息
申请号: 201380075220.4 申请日: 2013-01-29
公开(公告)号: CN105074427B 公开(公告)日: 2017-09-01
发明(设计)人: 山川峯尾;李智勇 申请(专利权)人: 惠普发展公司;有限责任合伙企业
主分类号: G01N21/25 分类号: G01N21/25;G01N21/65
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 王洪斌,陈岚
地址: 美国德*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 根据示例,一种用于执行光谱学分析的装置包括具有插入到试样中的形状和大小的细长衬底,其中细长衬底具有第一端和第二端。装置还包括在细长衬底的第一端与第二端之间的位置处定位在细长衬底的外部表面上的多个表面增强光谱学分析(SES)元件。
搜索关键词: 外部 表面上 具有 表面 增强 光谱 分析 元件 装置
【主权项】:
一种用于执行光谱学分析的装置,包括:具有插入到试样中的形状和大小的细长衬底,其中所述细长衬底具有第一端和第二端;以及在所述细长衬底的所述第一端与所述第二端之间的位置处定位在所述细长衬底的外部表面上的多个表面增强光谱学分析元件,其中所述多个表面增强光谱学分析元件被划分成多个组,并在各个表面增强光谱学分析元件组之间提供可见的间隙,其中表面增强光谱学分析元件的所述多个组的每一组布置在多个覆盖层中的一个覆盖层下方,其中所述多个覆盖层以不同的材料和/或不同的配置形成,使得在不同时间暴露不同的表面增强光谱学分析元件组以检测所述试样的条件随时间的改变。
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