[发明专利]在外部表面上具有表面增强光谱学分析元件的装置有效

专利信息
申请号: 201380075220.4 申请日: 2013-01-29
公开(公告)号: CN105074427B 公开(公告)日: 2017-09-01
发明(设计)人: 山川峯尾;李智勇 申请(专利权)人: 惠普发展公司;有限责任合伙企业
主分类号: G01N21/25 分类号: G01N21/25;G01N21/65
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 王洪斌,陈岚
地址: 美国德*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 外部 表面上 具有 表面 增强 光谱 分析 元件 装置
【权利要求书】:

1.一种用于执行光谱学分析的装置,包括:

具有插入到试样中的形状和大小的细长衬底,其中所述细长衬底具有第一端和第二端;以及

在所述细长衬底的所述第一端与所述第二端之间的位置处定位在所述细长衬底的外部表面上的多个表面增强光谱学分析元件,

其中所述多个表面增强光谱学分析元件被划分成多个组,并在各个表面增强光谱学分析元件组之间提供可见的间隙,其中表面增强光谱学分析元件的所述多个组的每一组布置在多个覆盖层中的一个覆盖层下方,其中所述多个覆盖层以不同的材料和/或不同的配置形成,使得在不同时间暴露不同的表面增强光谱学分析元件组以检测所述试样的条件随时间的改变。

2.根据权利要求1所述的装置,其中所述细长衬底包括针灸针。

3.根据权利要求1所述的装置,其中所述细长衬底包括圆形横截面,并且其中所述多个表面增强光谱学分析元件在所述细长衬底的所述第一端与所述第二端之间的位置处围绕所述细长衬底的外圆周定位。

4.根据权利要求1所述的装置,还包括:

从所述细长衬底的所述外部表面延伸的多个纳米指,其中所述多个表面增强光谱学分析元件定位在所述多个纳米指的尖端上。

5.根据权利要求4所述的装置,其中所述多个纳米指部分倒塌到所述多个纳米指中的邻近纳米指上,使得所述邻近纳米指的尖端关于彼此接近并且至少一些邻近纳米指的尖端上的多个表面增强光谱学分析元件彼此接触。

6.根据权利要求1所述的装置,其中所述覆盖层是以下中的至少一个:在流体中可溶解、可光解和通过外部刺激的接收可移除。

7.根据权利要求1所述的装置,其中所述覆盖层包括大体防止某些颗粒接触所述多个表面增强光谱学分析元件的多孔膜。

8.根据权利要求1所述的装置,其中所述多个表面增强光谱学分析元件的多个组在所述细长衬底的所述第一端与所述第二端之间的多个离散位置处定位在所述细长衬底的表面上。

9.根据权利要求8所述的装置,还包括:

覆盖多个表面增强光谱学分析元件的第一组的第一覆盖层;以及

覆盖多个表面增强光谱学分析元件的第二组的第二覆盖层;

其中所述第一覆盖层和所述第二覆盖层关于彼此独立可移除。

10.根据权利要求1所述的装置,还包括:

提供在所述细长衬底上的药物材料,其中所述药物材料在预确定量的时间和在接收到外部刺激中的至少一个之后引入到所述试样中。

11.一种用于使用权利要求1所述的装置执行光谱学分析的系统,所述系统包括:

光照多个表面增强光谱学分析元件组的光照源;以及

检测从靠近所述多个表面增强光谱学分析元件组定位的分析物发射的光的分光计,

其中所述多个表面增强光谱学分析元件组的每一组布置在多个覆盖层中的一个覆盖层下方,其中所述多个覆盖层以不同的材料和/或不同的配置形成,使得在不同时间将不同的表面增强光谱学分析元件组暴露给所述光照源以检测所述试样的条件随时间的改变。

12.一种用于使用权利要求1所述的装置执行光谱学分析的方法,所述方法包括:

将所述装置的至少一部分插入到包括包含目标颗粒的流体的试样中以使至少一些目标颗粒接触多个表面增强光谱学分析元件组;

将光照射束引导到所述多个表面增强光谱学分析元件组和目标颗粒上以使所述目标颗粒发射散射信号;以及

测量由所述目标颗粒发射的所述散射信号,

其中将所述多个表面增强光谱学分析元件组的每一组布置在多个覆盖层中的一个覆盖层下方,其中所述多个覆盖层以不同的材料和/或不同的配置形成,使得在不同时间将不同的表面增强光谱学分析元件组暴露给所述光照射束以检测所述试样的条件随时间的改变。

13.根据权利要求12所述的方法,其中所述细长衬底包括针灸针,并且其中将所述装置的至少一部分插入到试样中还包括将作为针灸针的所述装置的至少一部分插入到所述试样中。

14.一种用于制作根据权利要求1所述的装置的方法,所述方法包括

在所述细长衬底的所述外部表面上提供所述多个组中的多个表面增强光谱学分析元件,其中在各个表面增强光谱学分析元件组之间提供可见的间隙;以及

在所述细长衬底上提供覆盖层,包括将所述多个表面增强光谱学分析元件组的每一组布置在多个覆盖层中的一个覆盖层下方,其中所述多个覆盖层以不同的材料和/或不同的配置形成。

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