[发明专利]电弧等离子体成膜装置有效

专利信息
申请号: 201380071791.0 申请日: 2013-10-29
公开(公告)号: CN105102669B 公开(公告)日: 2017-02-15
发明(设计)人: 铃木正康;森元阳介 申请(专利权)人: 株式会社岛津制作所
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司11019 代理人: 寿宁,张华辉
地址: 日本京都府京都*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的电弧等离子体成膜装置包括成膜腔室,储存作为处理对象的基板;等离子体腔室,储存靶的至少一部分,且与成膜腔室连结;以及多个中空线圈,在靶与成膜腔室之间具有至少一处弯曲部以产生连续的磁力线,被包含非磁性金属的外皮覆盖,且配置于等离子体腔室内;利用电弧放电而在等离子体腔室内生成的含有源自靶材料的离子的等离子体是通过中空线圈的内侧而从靶被输送到基板。
搜索关键词: 电弧 等离子体 装置
【主权项】:
一种电弧等离子体成膜装置,其特征在于包括:成膜腔室,储存作为处理对象的基板;等离子体腔室,储存靶的至少一部分,且与所述成膜腔室连结;以及多个中空线圈,在所述靶与所述成膜腔室之间具有至少一处弯曲部以产生连续的磁力线,被包含非磁性金属的外皮覆盖,且配置于所述等离子体腔室内,所述等离子体腔室内的所述中空线圈可彼此独立地调整配置;利用电弧放电而在所述等离子体腔室内生成的含有源自所述靶材料的离子的等离子体是通过所述多个中空线圈的内侧而从所述靶被输送到所述基板。
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