[发明专利]偏振膜的制造方法有效

专利信息
申请号: 201380064757.0 申请日: 2013-11-20
公开(公告)号: CN104854490B 公开(公告)日: 2018-11-30
发明(设计)人: 姜太艳;齐藤武士;品川雅;冈本美纪 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02F1/1335
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 葛凡
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种偏振膜的制造方法,其特征在于包括:工序(1),通过对水分率为11重量%以下的偏振片的至少一面实施活化处理,由此使偏振片表面的表面粗糙度即Ra为0.6nm以上,工序(2),边使活化处理后的偏振片的表面与导辊接触边进行运送,工序(3),对偏振片和/或透明保护膜涂敷胶粘剂,工序(4),将偏振片与透明保护膜通过所述胶粘剂贴合。通过该制造方法,能够运送性良好地制造偏振膜。
搜索关键词: 偏振 制造 方法
【主权项】:
1.一种偏振膜的制造方法,其特征在于,为在偏振片的至少一面通过胶粘剂层设置有透明保护膜的偏振膜的制造方法,其包括:工序(1),通过对水分率为11重量%以下的偏振片的至少一面实施活化处理,由此使偏振片表面的表面粗糙度即Ra为0.6nm以上且5nm以下,工序(2),对于实施所述活化处理后的偏振片,边使该活化处理后的偏振片的表面与导辊接触边进行运送,工序(3),对由所述导辊运送的偏振片的将要形成所述胶粘剂层的面和/或透明保护膜的将要形成所述胶粘剂层的面涂敷胶粘剂,工序(4),将偏振片与透明保护膜通过所述胶粘剂贴合。
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