[发明专利]晶片划切装置和晶片划切方法有效
申请号: | 201380061901.5 | 申请日: | 2013-12-17 |
公开(公告)号: | CN104838483B | 公开(公告)日: | 2019-05-21 |
发明(设计)人: | 王中柯 | 申请(专利权)人: | 新加坡科技研究局 |
主分类号: | H01L21/68 | 分类号: | H01L21/68 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 王达佐;刘铮 |
地址: | 新加坡*** | 国省代码: | 新加坡;SG |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 根据本发明的一方面,提供了一种晶片划切装置。晶片划切装置包括格栅、真空吸力单元以及切割器。格栅包括用于支承晶片的交替式肋状件和狭槽布置,其中一个狭槽位于两个相邻肋状件之间。真空吸力单元与格栅流体连通并通过格栅的至少一个狭槽抽吸空气。切割器划切晶片,其中格栅、切割器或两者全部配置为将晶片成沿格栅的肋状件进行划切。还提供了一种晶片划切方法。所述方法包括提供晶片;沿在晶片周长的两个相对点之间延伸的长度使晶片受到应力;以及沿晶片受到应力的长度划切晶片。 | ||
搜索关键词: | 晶片 格栅 划切装置 肋状件 切割器 狭槽 真空吸力 种晶 抽吸空气 流体连通 全部配置 支承晶片 交替式 周长 延伸 | ||
【主权项】:
1.一种晶片划切装置,包括:格栅,包括带窗的框以及延伸穿过所述窗的交替式肋状件和狭槽布置,其中一个狭槽位于两个相邻的肋状件之间,所述格栅用于支承所述交替式肋状件和狭槽布置上的晶片;真空吸力单元,与所述格栅流体连通,所述真空吸力单元用于通过所述格栅的至少一个所述狭槽抽吸空气;以及切割器,用于划切所述晶片,其中所述格栅、所述切割器或两者全部配置为将所述晶片对准成沿所述格栅的所述肋状件进行划切。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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