[发明专利]具有提高的可靠性和工作寿命的半导体器件及其制造方法有效
申请号: | 201380055651.4 | 申请日: | 2013-10-25 |
公开(公告)号: | CN104756245A | 公开(公告)日: | 2015-07-01 |
发明(设计)人: | D·弗朗西斯;D·巴比克;F·纳瑟-菲利;F·伊杰克阿姆;Q·迪达克;J·斯马特;K·马修斯;F·Y·洛维 | 申请(专利权)人: | 六号元素技术美国公司 |
主分类号: | H01L21/762 | 分类号: | H01L21/762 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人: | 秦晨 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 描述了用于制造展示出提高的寿命和可靠性的半导体晶片结构的方法。这些方法包括将有源半导体层结构从原生非晶格匹配的半导体生长基板转移到工作基板,其中应变匹配层以及可任选地有源半导体层结构的一部分被去除。在某种实施例中,将有源半导体层结构附接于工作基板的过程包括在高温下退火达规定时间。本文所描述的方法能够被用来制造在整个有源半导体层结构内具有低浓度的位错缺陷的且不包含存在于原生半导体生长基板内的高度错位的应变匹配层的工作半导体晶片结构。 | ||
搜索关键词: | 具有 提高 可靠性 工作 寿命 半导体器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种用于制造将半导体器件制作于其上的工作半导体晶片结构的方法,所述方法包括:从原生半导体生长晶片开始,所述原生半导体生长晶片包含:具有第一晶格常数x1的原生生长基板;具有与所述第一晶格常数x1相差至少1%的第二晶格常数x2的有源半导体层结构;以及布置于所述原生生长基板与所述有源半导体层结构之间的一个或多个单晶应变匹配层;将所述有源半导体层结构的至少一部分转移到工作基板;以及去除所述原生半导体的所述一个或多个单晶应变匹配层的至少一部分,由此所述工作半导体晶片结构被形成并包含所述工作基板、所述原生半导体生长晶片的所述有源半导体层结构的至少一部分,但不包含所述原生半导体生长晶片的所述一个或多个单晶应变匹配层的至少一部分。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造