[发明专利]产生用于投射曝光设备的可用输出光束的EUV光源有效
| 申请号： | 201380054067.7 | 申请日： | 2013-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN104718500B | 公开（公告）日： | 2018-11-20 |
| 发明（设计）人： | I.桑格;M.莫尔;C.亨纳克斯;J.劳夫;D.克拉默 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/28;G21K1/06;H05H7/04 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种产生用于投射光刻的投射曝光设备(1)的EUV照明光的可用输出光束(3)的EUV光源(2)。该光源(2)具有产生EUV原始输出光束的EUV产生装置(2c)。该EUV原始输出光束为圆形偏振。为了设定可用输出光束(3)的偏振，相对于偏振方向，偏振设定装置(32；39)对原始输出光束具有线性偏振效果。这导致提供改进的输出光束以用于分辨率最优照明的EUV光源。 | ||
| 搜索关键词： | 产生 用于 投射 曝光 设备 可用 输出 光束 euv 光源 | ||
【主权项】：
1.产生用于投射光刻的投射曝光设备(1)的EUV照明光的可用输出光束(3)的EUV光源(2，53)，‑具有产生EUV原始输出光束(30)的EUV产生装置(2c)，‑其中，所述EUV原始输出光束(30)为圆形偏振(31)，‑具有偏振设定装置(32；39)，其关于偏振方向对所述原始输出光束(30)具有线性偏振效果，以设定所述可用输出光束(3)的偏振。
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