[发明专利]用于确定成像剂的分布的方法有效
申请号: | 201380044202.X | 申请日: | 2013-08-20 |
公开(公告)号: | CN104584072B | 公开(公告)日: | 2017-12-15 |
发明(设计)人: | Y·贝尔克 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦有限公司 |
主分类号: | G06T7/11 | 分类号: | G06T7/11;G06T7/30 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人: | 李光颖,王英 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种用于确定成像剂在体积中的分布的方法。所述方法包括采集体积的至少一个三维功能图像;将所述体积分割成一个或多个区划;由比例因子与模板成像剂活动的非仿射变换的乘积对来自所述功能图像的所述三维成像剂活动的表示;根据所述这样表示的成像剂活动来计算在平面表面上的投影成像剂活动;采集所述体积中的所述成像剂活动的平面图像;将所述投影成像剂活动与所述平面图像配准;将采集到的平面图像与计算出的投影成像剂活动进行比较;并且修改对所述三维成像剂活动的所述表示。 | ||
搜索关键词: | 用于 确定 成像 分布 方法 | ||
【主权项】:
一种用于确定成像剂在体积中的分布的方法,包括以下步骤:采集(1)具有分布在其中的成像剂的所述体积的至少第一三维功能图像;将所述体积分割(2)成一个或多个区划;将至少一个三维成像剂分布基函数分配(3)到所述体积内的一个或多个区划;针对至少一个平面表面上的至少一个区划,根据所分配的所述至少一个三维成像剂分布基函数来计算(4)投影成像剂活动;采集(5)所述体积中的所述成像剂活动的至少第一平面图像;将来自至少一个区划的所述投影成像剂活动与所述体积中的所述成像剂活动的所述至少第一平面图像的至少部分配准(6);将采集到的所述体积中的所述成像剂活动的第一平面图像的至少部分的强度与计算出的基本在同一平面表面上的投影成像剂活动的至少部分进行比较(7);所述方法的特征在于:所述三维成像剂分布基函数包括由比例因子与模板成像剂活动的非仿射变换的乘积对所述三维成像剂活动的表示,其中,所述模板成像剂活动是根据所述体积的所述第一三维功能图像而被确定的;并且所述方法的特征还在于,继比较(7)所述强度的所述步骤之后,修改(8)以下中的至少一个以便于获得所述投影成像剂活动与采集到的所述成像剂活动的第一平面图像之间的更好的拟合:i)至少一个比例因子以及ii)所述模板成像剂活动的至少一个非仿射变换。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于皇家飞利浦有限公司,未经皇家飞利浦有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201380044202.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。