[发明专利]溅射靶及其制造方法在审
| 申请号： | 201380042153.6 | 申请日： | 2013-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN104520468A | 公开（公告）日： | 2015-04-15 |
| 发明（设计）人： | 张守斌;梅本启太 | 申请（专利权）人： | 三菱综合材料株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;H01L31/032 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 康泉;王珍仙 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明所涉及的溅射靶具有如下成分组成：作为溅射靶的除F、S、Se以外的金属成分，含有Ga：10～40at％、Na：1.0～15at％，剩余部分由Cu及不可避免杂质构成，以由氟化钠、硫化钠及硒化钠中的至少一种构成的Na化合物的状态含有Na，理论密度比为90％以上，抗折强度为100N/mm2以上，体积电阻率为1mΩ·cm以下，在溅射靶表面的1cm2面积内，0.05mm2以上的氟化钠、硫化钠及硒化钠中的至少一种的凝集体平均为一个以下。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种溅射靶，其中，所述溅射靶为具有如下成分组成的烧结体：含有Ga：2～30at％、In：15～45at％、Na：0.05～15at％，剩余部分由Cu及不可避免杂质构成，所述烧结体具有Na化合物相被分散的组织，所述Na化合物相以由氟化钠、硫化钠及硒化钠中的至少一种构成的Na化合物的状态含有所述Na，该Na化合物相的平均粒径为10μm以下。
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