[发明专利]用于降低氟代烯烃中RfCCX杂质的方法

摘要

本公开涉及用于降低氟代烯烃中RfC≡CX杂质浓度的方法。该方法包括使包含至少一种氟代烯烃和至少一种RfC≡CX杂质的混合物与至少一种胺接触以降低所述混合物中至少一种RfC≡CX杂质的浓度；其中Rf为全氟代烷基，并且X为H,F,Cl,Br或I。本公开还涉及用于制备至少一种选自CF3CF=CH2、CF3CH=CHF的氢四氟丙烯产物、至少一种选自CF3CCl=CH2、CF3CH=CHCl的氢氯三氟丙烯产物、和其混合物并降低在该过程期间生成的CF3C≡CH杂质浓度的方法。

主权项

一种方法，其包括：使包含至少一种氟代烯烃和至少一种RfC≡CX杂质的混合物与至少一种胺在0℃至60℃的温度接触以降低所述混合物中的所述至少一种RfC≡CX杂质的浓度；其中Rf为包含1－3个碳原子的全氟代烷基，X为H、F、Cl、Br或I，所述至少一种氟代烯烃选自CF3CF=CH2、CF3CH=CHF、CF3CH=CH2、CF3CH=CF2、CF3CF=CHF、CF3CCl=CH2、CF3CH=CHCl、CF3CF=CHCl、CF3CH=CCl2、CF3CCl=CHCl、CF3CH=CFCl、CF3CCl=CHF、CF3CF=CH2、CF3CH=CHF、CF3CH=CH2、CF3CCl=CH2、CF3CH=CHCl、CF3CH=CFCl、CF3CH=CF2、CF3CCl=CHF、CF3CF=CHF、CF3CF=CHCl、CF3CH=CCl2、CF3CCl=CHCl，所述至少一种胺选自R3N、肼、烷基肼、芳基肼、芳烷基肼、多胺和杂环胺，其中每个R独立地为氢、烷基、杂烷基、芳基、或芳烷基，并且所述烷基、杂烷基、芳基和芳烷基未被取代或被羟基、烷氧基、卤素、氨基取代。