[发明专利]合金溅射靶材、制造方法及软磁性薄膜层、垂直磁记录介质有效
申请号: | 201380039755.6 | 申请日: | 2013-08-12 |
公开(公告)号: | CN104508167B | 公开(公告)日: | 2017-08-04 |
发明(设计)人: | 长谷川浩之;泽田俊之;松原庆明 | 申请(专利权)人: | 山阳特殊制钢株式会社 |
主分类号: | C22C38/00 | 分类号: | C22C38/00;C22C1/04;C22C19/07;C22C30/00;C22C33/02;C23C14/34;G11B5/667;G11B5/851;H01F10/16;H01F41/18 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人: | 张玉玲 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供一种溅射中没有裂纹的Fe‑Co系合金溅射靶材。该Fe‑Co系合金溅射靶材,由下式(1)(FeX‑Co100‑X)100‑YMY...(1)(式中,原子比是0≤X≤100,4≤Y≤28,M元素含有Nb、Ta、Mo、W、Cr和V中的一种或两种以上)所表示的Fe‑Co‑M系合金构成。该溅射靶材的显微组织具有以Fe和Co为主体的相、和由Fe与Co中的一种或两种及M元素所构成的金属问化合物相,在全体显微组织中共晶组织所占的面积为30%以下。 | ||
搜索关键词: | fe co 合金 溅射 及其 制造 方法 磁性 薄膜 使用 垂直 记录 介质 | ||
【主权项】:
一种合金溅射靶材,其是由下式(1)所表示的合金构成,(FeX-Co100-X)100-YMY… (1)式中,原子比是0≤X≤100,4≤Y≤28,M元素含有Nb、Ta、Mo、W、Cr和V中的一种或两种以上,其中,该溅射靶材的显微组织具有以Fe和/或Co为主体的相、和由Fe与Co中的一种或两种及M元素所构成的金属间化合物相,全体显微组织中共晶组织所占的面积为30%以下。
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