[发明专利]膜厚测定装置在审
| 申请号： | 201380035851.3 | 申请日： | 2013-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN104412061A | 公开（公告）日： | 2015-03-11 |
| 发明（设计）人： | 方志教和;坂上英和;原田德实;山胁千明 | 申请（专利权）人： | 夏普株式会社 |
| 主分类号： | G01B15/02 | 分类号： | G01B15/02 |
| 代理公司： | 北京市隆安律师事务所 11323 | 代理人： | 权鲜枝 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 基板Al检测单元(33a)从测定头(23)对成膜前的基板(11)照射原始X射线，利用测定头(23)检测由该基板(11)产生的荧光X射线，检测该基板(11)所含的铝成分。Al膜校正单元(33b)在基板(11)上形成了Al膜时，基于基板Al检测单元(33a)的检测结果校正利用测定头(23)从Al膜检测出的荧光X射线的强度，求出Al膜的厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 测定 装置 | ||
【主权项】：
一种膜厚测定装置，其特征在于，具备：基座(1)；基板工作台(2)，其设于上述基座(1)，并且载置成膜后的产品基板(10)；龙门架(4)，其以相对于上述基板工作台(2)向第1方向(A)延伸，并且相对于上述基板工作台(2)能向第2方向(B)移动的方式安装于上述基座(1)；滑动件(5)，其能向上述第1方向(A)移动地安装于上述龙门架(4)；测定头(23)，其固定于上述滑动件(5)，并且对载置于上述基板工作台(2)的上述产品基板(10)的膜(12)照射原始X射线，检测由该膜(12)产生的荧光X射线；以及解析单元(33)，其由利用上述测定头(23)检测出的上述荧光X射线的强度求出上述膜(12)的厚度，上述解析单元(33)具有：基板Al检测单元(33a)，其从上述测定头(23)对上述产品基板(10)的成膜前的基板(11)照射原始X射线，利用上述测定头(23)检测由该基板(11)产生的荧光X射线，检测该基板(11)所含的铝成分；以及Al膜校正单元(33b)，在上述产品基板(10)的上述膜(12)中有包含铝的Al膜时，基于上述基板Al检测单元(33a)的检测结果，对利用上述测定头(23)从上述Al膜检测出的荧光X射线的强度进行校正，求出上述Al膜的厚度。
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