[发明专利]光取向曝光装置及光取向曝光方法有效
| 申请号： | 201380034909.2 | 申请日： | 2013-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN104395832A | 公开（公告）日： | 2015-03-04 |
| 发明（设计）人： | 梶山康一;桥本和重;新井敏成 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02F1/1337 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 吕琳;杨生平 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种光取向曝光装置及光取向曝光方法。将取向曝光方式适用于多域法时，消除单位图像区域的分割区域中的边界附近的取向混乱。一种光取向曝光装置(100)，其将液晶显示元件的各单位图像区域分割为多个分割区域，并分别向不同方向对各分割区域的取向材料膜进行光取向，所述光取向曝光装置具备：第1掩模(M1)及第1曝光装置(11)，用于单独接近式曝光第1分割区域(Da1)；第2掩模(M2)及第2曝光装置(12)，用于单独接近式曝光与第1分割区域(Da1)相邻的第2分割区域(Da2)；及第3掩模(M3)及第3曝光装置(13)，用于曝光第1分割区域(Da1)与第2分割区域(Da2)的边界附近的第1分割区域(Da1)侧的区域，第3曝光装置(13)相对于被曝光面Bs具备与第1曝光装置(11)或第2曝光装置(12)相同的光照射角度，在第3掩模(M3)的掩模开口与被曝光面(Bs)之间具备聚光机构(20)，其使掩模透射光聚光于边界附近的第1分割区域(Da1)侧的区域。 | ||
| 搜索关键词： | 取向 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种光取向曝光装置，其将液晶显示元件的各单位图像区域分割为多个分割区域，并分别向不同方向对各分割区域的取向材料膜进行光取向，其特征在于，所述光取向曝光装置具备：第1掩模及第1曝光装置，用于单独接近式曝光作为所述分割区域之一的第1分割区域；第2掩模及第2曝光装置，用于单独接近式曝光作为所述分割区域之一且与所述第1分割区域相邻的第2分割区域；及第3掩模及第3曝光装置，用于曝光所述第1分割区域与所述第2分割区域的边界附近的所述第1分割区域侧的区域，所述第3曝光装置相对于被曝光面具备与所述第1曝光装置相同的光照射角度，在所述第3掩模的掩模开口与被曝光面之间具备聚光机构，其使掩模透射光聚光于所述边界附近的所述第1分割区域侧的区域。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社V技术，未经株式会社V技术许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201380034909.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：使用空时块码的系统和方法
- 下一篇：具体用于燃气燃烧器的具有引燃火焰的点火器
