[发明专利]电子部件用金属材料及其制造方法、使用其的连接器端子、连接器及电子部件有效
申请号: | 201380034077.4 | 申请日: | 2013-06-27 |
公开(公告)号: | CN104379818B9 | 公开(公告)日: | 2017-04-12 |
发明(设计)人: | 涉谷义孝;深町一彦;儿玉笃志 | 申请(专利权)人: | JX日矿日石金属株式会社 |
主分类号: | C25D7/00 | 分类号: | C25D7/00;C22C5/02;C22C5/04;C22C5/06;C22C13/00;C22C28/00;C25D5/10;C25D5/50;H01B1/02;H01B5/02;H01R13/03 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 蔡晓菡,徐厚才 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种具有低晶须性、低粘着磨耗性及高耐久性的电子部件用金属材料、使用其的连接器端子、连接器及电子部件。本发明的电子部件用金属材料具备基材;下层,其形成在基材上且由选自由Ni、Cr、Mn、Fe、Co及Cu所组成的组即A构成元素组中的1种或2种以上所构成;中层,其形成在下层上且由选自由Ag、Au、Pt、Pd、Ru、Rh、Os及Ir所组成的组即B构成元素组中的1种或2种以上所构成;上层,其形成在中层上且由选自由Ag、Au、Pt、Pd、Ru、Rh、Os及Ir所组成的组即B构成元素组中的1种或2种以上、与选自由Sn及In所组成的组即C构成元素组中的1种或2种的合金所构成;及最表层,其形成在上层上且由选自由Sn及In所组成的组即C构成元素组中的1种或2种所构成;并且下层的厚度为0.05 μm以上且低于5.00 μm,中层的厚度为0.01 μm以上且低于0.50 μm,上层的厚度低于0.50 μm,最表层的厚度为0.005 μm以上且低于0.30 μm。 | ||
搜索关键词: | 电子 部件 金属材料 及其 制造 方法 使用 连接器 端子 | ||
【主权项】:
电子部件用金属材料,其具有低晶须性、低粘着磨耗性及高耐久性,并且具备:基材;下层,其形成在所述基材上且由选自由Ni、Cr、Mn、Fe、Co及Cu所组成的组即A构成元素组中的1种或2种以上所构成;中层,其形成在所述下层上且由选自由Ag、Pt、Pd、Ru、Rh、Os及Ir所组成的组即B构成元素组中的1种或2种以上所构成;上层,其形成在所述中层上且由选自由Ag、Pt、Pd、Ru、Rh、Os及Ir所组成的组即B构成元素组中的1种或2种以上、与选自由Sn及In所组成的组即C构成元素组中的1种或2种的合金所构成;及最表层,其形成在所述上层上且由选自由Sn及In所组成的组即C构成元素组中的1种或2种所构成;并且所述下层的厚度为0.05 μm以上且低于5.00 μm,所述中层的厚度为0.01 μm以上且低于0.50 μm,所述上层的厚度低于0.50 μm,所述最表层的厚度为0.005 μm以上且低于0.30 μm。
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