[发明专利]织构化具有大表面积的基底的方法在审
| 申请号： | 201380024814.2 | 申请日： | 2013-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN104272187A | 公开（公告）日： | 2015-01-07 |
| 发明（设计）人： | N.舍曼;J.泰赛尔;E.松德加德 | 申请（专利权）人： | 法国圣戈班玻璃厂 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;B29C43/12;B29C59/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 段家荣;林森 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及在基底上形成纹理的方法，包括：-在基底上沉积可变形层；-令该可变形层与子印模的织构化面接触；-将涂布的基底与子印模引入到不可渗透性材料制成的袋中；-将该袋及其内容物引入到密封容器中；-从该容器中抽出空气，直到达到最高等于0.5巴的压力；-在向该容器中重新引入空气之前将该袋密封；-将密封的袋及其内容物引入到高压釜中；-施加0.5至8巴的压力和25至400℃的温度15分钟至数小时；-打开该袋；随后-分离该基底与子印模；本发明还涉及一种通过该方法获得的透明组件，包含涂有织构化层的玻璃基底；还涉及该方法用于获得意在提取、引导或重新定向光的基底的用途，或超疏水性或超亲水性基底。 | ||
| 搜索关键词： | 织构化 具有 表面积 基底 方法 | ||
【主权项】：
在基底上形成纹理的方法，其特征在于包括：‑ 在基底上沉积可变形层；‑ 令该可变形层与子印模的织构化面接触；‑ 将涂布的基底与子印模引入到不可渗透性材料制成的袋中；‑ 将该袋及其内容物引入到密封容器中；‑ 从该容器中抽出空气，直到达到最高等于0.5巴的压力；‑ 在向该容器中重新引入空气之前将该袋密封；‑ 将密封的袋及其内容物引入到高压釜中；‑ 施加0.5至8巴的压力和25至400℃的温度15分钟至数小时；‑ 打开该袋；随后‑ 分离该基底与子印模。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于法国圣戈班玻璃厂，未经法国圣戈班玻璃厂许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201380024814.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种笔记本电脑用的转轴支架
- 下一篇：连杆轴承
