[发明专利]用于形成薄膜的蒸镀材料有效
| 申请号： | 201380017052.3 | 申请日： | 2013-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN104271795A | 公开（公告）日： | 2015-01-07 |
| 发明（设计）人： | 堀江幸弘;小林健志 | 申请（专利权）人： | 佳能奥普特龙株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;G02B1/11 |
| 代理公司： | 北京瑞盟知识产权代理有限公司 11300 | 代理人： | 刘昕 |
| 地址： | 日本国茨城*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 由含有钛和铌作为成分的、具有欠氧的金属氧化物的熔融体构成用于形成薄膜的蒸镀材料，优选通过使铌的掺杂量为2mol％以上16mol％以下，从而与氧化钛100％相比，使导电性提高，得到高抗静电性，同时确保高透光性。另外，通过使用欠氧状态的金属氧化物而非完全氧化物，并且由熔融体而非烧结体形成掺杂铌而成的金属氧化物的材料，使得材料形成非锐钛矿结构，即使在蒸镀后的材料残渣中补充使用新材料，所得到的膜的特性也不易产生变化。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 形成 薄膜 材料 | ||
【主权项】：
一种用于形成薄膜的蒸镀材料，其特征在于，由含有钛和铌作为成分的、欠氧的金属氧化物的熔融体形成。
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