[发明专利]弹性波装置及其制造方法有效
申请号: | 201380015669.1 | 申请日: | 2013-03-15 |
公开(公告)号: | CN104205629A | 公开(公告)日: | 2014-12-10 |
发明(设计)人: | 神藤始 | 申请(专利权)人: | 株式会社村田制作所 |
主分类号: | H03H9/145 | 分类号: | H03H9/145;H03H3/08;H03H9/25 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 韩聪 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种不仅可以实现高声速化,还不容易受到由成为乱真的其他模式而引起的响应的影响的弹性波装置。一种弹性波装置(1),其具有铌酸锂膜(5),并利用SH型表面波,具备:支撑基板(2);高声速膜(3),其形成在所述支撑基板(2)上,传播的体波声速比在所述铌酸锂膜(5)中传播的弹性波声速更高速;低声速膜(4),其层叠在所述高声速膜(3)上,传播的体波声速比在所述铌酸锂膜(5)中传播的体波声速更低速;所述铌酸锂膜(5),其层叠在所述低声速膜(4)上;和IDT电极(6),其形成在所述铌酸锂膜(5)的一面,在将铌酸锂膜(5)的欧拉角设为(0°±5°,θ,0°)时,θ处于0°~8°以及57°~180°的范围内。 | ||
搜索关键词: | 弹性 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种弹性波装置,其具有铌酸锂膜,并利用SH型表面波,具备:支撑基板;高声速膜,其形成在所述支撑基板上,传播的体波声速比在所述铌酸锂膜中传播的弹性波的声速更高速;低声速膜,其层叠在所述高声速膜上,传播的体波声速比在所述铌酸锂膜中传播的体波声速更低速;所述铌酸锂膜,其层叠在所述低声速膜上;和IDT电极,其形成在所述铌酸锂膜的一面,在将所述铌酸锂膜的欧拉角设为(0°±5°,θ,0°)时,θ处于0°~8°以及57°~180°的范围内。
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