[发明专利]投射曝光设备的照明光学单元有效
| 申请号： | 201380013861.7 | 申请日： | 2013-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN104169800B | 公开（公告）日： | 2017-02-22 |
| 发明（设计）人： | I.桑格 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B26/08 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 陈金林 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种投射曝光设备的照明光学单元(25)，用于将照明光(16)引向照明场(5)，光刻掩模(7)可布置在照明场(5)中。第一分面反射镜(19)具有多个单独反射镜(26)，所述多个单独反射镜(26)提供将照明光部分束(16i)引向照明场(5)的照明通道。单独反射镜(26)各具有多层反射涂层。第二分面反射镜(20)在照明光(16)的光束路径中布置在第一分面反射镜(19)的下游。第二分面反射镜(20)的相应分面(35)连同第一分面反射镜(19)的单独反射镜(26)的至少一个一起使将照明光部分束(16i)引向照明场(5)的照明通道完整。单独反射镜(26)布置成使相应照明光部分束(16i)以入射角(I)入射于单独反射镜(26)上，由此限定入射平面。入射角(I)被预定成使入射平面中偏振的照明光(16)的反射率Rp与垂直于入射平面偏振的照明光(16)的反射率Rs之间的Rp/Rs比小于0.8。这导致照明可适用于在投射曝光期间获得最佳解析能力的照明光学单元。 | ||
| 搜索关键词： | 投射 曝光 设备 照明 光学 单元 | ||
【主权项】：
一种投射曝光设备(1)的照明光学单元(25；40)，将照明光(16)引向能够布置有光刻掩模(7)的照明场(5)，‑包含第一分面反射镜(19)，其具有多个单独反射镜(26)，所述多个单独反射镜(26)提供将多个照明光部分束(16i)引向所述照明场(5)的照明通道；‑其中，所述单独反射镜(26)各具有多层反射涂层(33)；‑包含第二分面反射镜(20)，其在所述照明光(16)的光束路径中布置在所述第一分面反射镜(19)的下游，其中具有多个分面(35)的第二分面反射镜(20)的相应分面(35)与所述第一分面反射镜(19)的单独反射镜(26)的至少一个一起使将所述照明光部分束(16i)引向所述照明场(5)的所述照明通道完整；‑其中，所述单独反射镜(26)布置成使相应照明光部分束(16i)以入射角(I)入射于所述单独反射镜(26)上，由此限定入射平面；‑其中，所述入射角(I)被预定为使得以下二者之间的Rp/Rs比小于0.7：‑‑在所述入射平面中偏振的照明光(16)的反射率Rp，与‑‑垂直于所述入射平面偏振的照明光(16)的反射率Rs。
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