[发明专利]制备用于光电器件中的具有低应力和光学性能的薄膜的方法有效
| 申请号： | 201380011229.9 | 申请日： | 2013-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN104136508B | 公开（公告）日： | 2017-07-21 |
| 发明（设计）人： | A·施密特;潘汉强;D·施彻博尔;王征 | 申请（专利权）人： | 科思创德国股份有限公司 |
| 主分类号： | C08J5/18 | 分类号： | C08J5/18;C08L69/00;C09D133/06 |
| 代理公司： | 北京北翔知识产权代理有限公司11285 | 代理人： | 王媛,钟守期 |
| 地址： | 德国勒*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种具有低光滞后并因此具有低应力双折射的薄膜，所述薄膜包括至少一个含有至少一种聚碳酸酯或共聚碳酸酯的层，且由于所述薄膜的光学性能，其适合用于光电器件中，例如适用于显示器和触摸屏中，本发明还涉及制备所述薄膜的方法及其用途。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 用于 光电 器件 中的 具有 应力 光学 性能 薄膜 方法 | ||
【主权项】：
一种经涂布的薄膜，所述薄膜包括基底膜，所述基底膜包含至少一个含有至少一种聚碳酸酯或共聚碳酸酯的层，其特征在于，所述基底膜具有：‑小于100nm的光滞后‑表面粗糙度为200nm至20μm的粗糙面‑表面粗糙度小于200nm的另一面‑所述粗糙面上的辐射固化的涂层，所述涂层的表面具有小于200nm的表面粗糙度，其中，所述聚碳酸酯或共聚碳酸酯含有由式(Ia)的二羟基二苯基环烷烃作为二羟基芳基化合物制备的单元，其中R1和R2彼此独立地代表氢；卤素；C1‑C8‑烷基；C5‑C6‑环烷基；C6‑C10‑芳基；和C7‑C12‑芳烷基，m代表4至7的整数，R3和R4对于每个X，其可单独选择，其彼此独立地代表氢或C1‑C6‑烷基，且X代表碳，条件是，在至少一个X原子上，R3和R4同时代表烷基。
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