[实用新型]一种应用在镀膜设备中的离子源清洗装置有效
| 申请号： | 201320807059.2 | 申请日： | 2013-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN203582958U | 公开（公告）日： | 2014-05-07 |
| 发明（设计）人： | 金烈 | 申请（专利权）人： | 深圳市金凯新瑞光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02;C23C14/22;B08B7/00 |
| 代理公司： | 深圳市惠邦知识产权代理事务所 44271 | 代理人： | 满群 |
| 地址： | 518157 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本新型涉及真空镀膜设备，特指一种应用在镀膜设备中的离子源清洗装置。它包括有镀膜设备中用来清洗的真空室，该真空室为凹型容腔，真空室上部的开口对应待清洗的镀膜基板；真空室的底部安装有用来抽真空的真空机构，在真空室内固定设有绝缘支撑件，在绝缘支撑件上设有用来提供清洁气体的布气孔，在绝缘支撑件上还分别间隔设有两个电极，两个电极分别通过各自的电源线与外部的高压中频电源电连接；工作时，在接通高压中频电源的两个电极作用下使清洁气体形成等离子体，所述镀膜基板位于该等离子体范围之内。采用上述结构后，本新型的清洗装置可以清除基板表面异物，改善成膜质量，增加沉积层在基底上的附着力。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 应用 镀膜 设备 中的 离子源 清洗 装置 | ||
【主权项】：
一种应用在镀膜设备中的离子源清洗装置，包括有镀膜设备中用来清洗的真空室，其特征在于：该真空室为凹型容腔，真空室上部的开口对应待清洗的镀膜基板；真空室的底部安装有用来抽真空的真空机构，在真空室内固定设有绝缘支撑件，在绝缘支撑件上设有用来提供清洁气体的布气孔，在绝缘支撑件上还分别间隔设有两个电极，两个电极分别通过各自的电源线与外部的高压中频电源电连接；工作时，在接通高压中频电源的两个电极作用下使清洁气体形成等离子体，所述镀膜基板位于该等离子体范围之内。
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