[实用新型]一种应用在镀膜设备中的离子源清洗装置

权利要求书

1.一种应用在镀膜设备中的离子源清洗装置，包括有镀膜设备中用来清洗的真空室，其特征在于：该真空室为凹型容腔，真空室上部的开口对应待清洗的镀膜基板；真空室的底部安装有用来抽真空的真空机构，在真空室内固定设有绝缘支撑件，在绝缘支撑件上设有用来提供清洁气体的布气孔，在绝缘支撑件上还分别间隔设有两个电极，两个电极分别通过各自的电源线与外部的高压中频电源电连接；工作时，在接通高压中频电源的两个电极作用下使清洁气体形成等离子体，所述镀膜基板位于该等离子体范围之内。

2.根据权利要求1所述的一种应用在镀膜设备中的离子源清洗装置，其特征在于：所述绝缘支撑件由绝缘支撑柱和绝缘支撑座组成，绝缘支撑柱固定在真空室的底部，绝缘支撑座连接在绝缘支撑柱上，绝缘支撑座的中心开设有通气槽，所述两个电极沿通气槽平行对称分布在绝缘支撑座的顶面，所述布气孔的位于通气槽中。

3.根据权利要求2所述的一种应用在镀膜设备中的离子源清洗装置，其特征在于：所述真空室上部的开口边缘设有隔离罩，隔离罩的顶面与镀膜基板之间形成足够小的通气小间隙使得所述真空室通过该通气小间隙与镀膜设备内的大真空腔相通而不影响彼此独立的真空度。

4.根据权利要求3所述的一种应用在镀膜设备中的离子源清洗装置，其特征在于：所述清洁气体为氩气和氧气的混合气体，氩气占混合气体的体积百份比的范围在3%-20%范围之内。

5.根据权利要求4所述的一种应用在镀膜设备中的离子源清洗装置，其特征在于：所述高压中频电源为工作电压在3000V-5000V范围之内，电流在0.5A-3.5A范围之内，频率在40khz-200khz范围之内。

6.根据权利要求5所述的一种应用在镀膜设备中的离子源清洗装置，其特征在于：所述真空室的底部还设有用来排除清洗过程中产生水气的低温水气泵。

7.根据权利要求6所述的一种应用在镀膜设备中的离子源清洗装置，其特征在于：所述两个电极通过电极支撑板连接在绝缘支撑座上，所述两个电极旁还分别设有用来冷却电极的冷却水管。

8.根据权利要求7所述的一种应用在镀膜设备中的离子源清洗装置，其特征在于：所述两电极采用低溅射率金属材料作为离子源放电电极。

9.根据权利要求8所述的一种应用在镀膜设备中的离子源清洗装置，其特征在于：所述两电极采用Ti或Al或Mo作为离子源放电电极。