[实用新型]具有防光反馈作用的高功率半导体激光加工光源系统有效
| 申请号： | 201320677720.2 | 申请日： | 2013-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN203621729U | 公开（公告）日： | 2014-06-04 |
| 发明（设计）人： | 王敏;宋涛;蔡万绍;刘兴胜 | 申请（专利权）人： | 西安炬光科技有限公司 |
| 主分类号： | B23K26/06 | 分类号： | B23K26/06;B23K26/035 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 胡乐 |
| 地址： | 710119 陕西省西安市高*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种具有防光反馈作用的高功率半导体激光加工光源系统，该系统能够消除激光加工中反馈光沿入射光路反射回激光器中，降低反馈光对半导体激光器输出性能以及寿命的影响。该具有防光反馈作用的高功率半导体激光加工光源系统，包括半导体激光器叠阵，在半导体激光器叠阵的出光光路上设置有防光反馈模块，所述的防光反馈模块包括检偏器，在检偏器后设置有四分之一波片或者两个八分之一波片，用以将光偏振态旋转45°。采用本实用新型的方案，经过两次四分之一玻片的反馈光与入射光偏振态垂直，采用检偏器使得反馈光截止，达到消除反馈光入射回半导体激光器中。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 反馈 作用 功率 半导体 激光 加工 光源 系统 | ||
【主权项】：
具有防光反馈作用的高功率半导体激光加工光源系统，其特征在于：包括半导体激光器叠阵，在半导体激光器叠阵的出光光路上设置有防光反馈模块，所述的防光反馈模块包括检偏器，在检偏器后设置有四分之一波片或者两个八分之一波片，用以将光偏振态旋转45°。
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