[实用新型]一种高倍过载1KPa硅微压传感器芯片结构有效

专利信息
申请号: 201320574844.8 申请日: 2013-09-16
公开(公告)号: CN203519215U 公开(公告)日: 2014-04-02
发明(设计)人: 徐淑霞;张治国;郑东明;梁峭;徐长伍;唐慧;张纯棣;刘芙;常伟;陈琳 申请(专利权)人: 沈阳仪表科学研究院有限公司
主分类号: G01L1/22 分类号: G01L1/22;G01L9/06
代理公司: 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 代理人: 崔红梅
地址: 110043 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 一种高倍过载1KPa硅微压传感器芯片结构,其特征在于梁—单岛双面双片微结构:上芯片正面“I”形梁上“U”形压力敏感电阻,浅槽外周为铝电极引线及引线焊盘;上芯片背面,相对于浅槽部位,剩余膜片厚度与中心方形支撑相连,即为单硬芯形敏感膜片;下芯片正面除周边封接面外是过压截止槽,中心有引压通孔;上、下芯片由硅橡胶密封后,经划片分割后形成单个微压传感器芯片。效果:本芯片结构的传感器压力量程仅为1KPa,因梁结构的应力集中效应,1KPa压力时灵敏度输出达到20mV/1KPa(1mA激励),线性度达到0.05%FS.采用了用双抛硅单晶片代替封接玻璃,高强度密封胶在室温下粘接固化实现了无应力封接;当上芯片承受高倍过载时,硬芯形敏感膜片向下弯曲触在浅槽上而截止,这种结构实现了抗50倍过压的保护。
搜索关键词: 一种 高倍 过载 kpa 硅微压 传感器 芯片 结构
【主权项】:
一种高倍过载1KPa硅微压传感器芯片结构,芯片采用双面抛光的硅基片,其特征在于结构特征:上芯片(1)双面加工出的微结构:即正面“I”形梁结构,背面单硬芯膜片结构;上芯片(1)正面腐蚀形成的“回”字形浅槽(3),并留下2个“I”形梁(4),对称分隔“回”字,“I”形梁(4)上各有2个“U”形压力敏感电阻(2),浅槽(3)外周为铝电极引线及引线焊盘(5);在上芯片(1)背面,相对于正面浅槽(3)部位有膜片与中心方形支撑相连,即为单硬芯形敏感膜片(7);下芯片上过压截止槽和引压孔微结构:下芯片(8)正面周边封接面是过压截止槽(9),在背面中心有通孔作为引压孔(10);上芯片(1)的下表面与下芯片(8)上表面由密封硅橡胶层(11)密封后,经划片分割后形成单个微压传感器芯片。
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