[实用新型]反应室、设备和装置

摘要

本实用新型涉及用于利用气溶胶辅助沉积工艺在衬底（28）上提供涂层（30）的反应室（4）、设备和装置，在所述气溶胶辅助沉积工艺中，使得一种或多种前体材料在衬底（28）的表面（29）上反应。反应室（4）包括用于形成反应空间（24）的底部（26）、顶壁（2）和侧壁（34），所述反应空间具有反应空间高度（H1）和反应空间宽度（W1）；一个或多个前体供应装置（10，18，20），其用于将一种或多种前体材料供应到反应空间（24）；和一种或多种排放装置（8），其用于从反应空间排放前体材料。根据本实用新型，反应空间（14）沿着反应室（4）的侧壁（34）在边缘区域（36）处具有降低的高度（H5）。

主权项

一种反应室（4），所述反应室用于利用气溶胶辅助沉积工艺在衬底（28）上提供涂层（30），在所述气溶胶辅助沉积工艺中，一种或多种前体材料在所述衬底（28）的表面（29）上反应，所述反应室（4）具有底部（26）、顶壁（22，19，21）和侧壁（34），所述反应室（4）包括： ‑反应空间（24），所述反应空间具有反应空间高度（H1）和反应空间宽度（W1）； ‑一个或多个前体供应装置（10，18，20），所述前体供应装置用于将一种或多种前体材料供应到所述反应空间（24）；和 ‑一个或多个排放装置（8），所述排放装置用于从所述反应空间（24）排放前体材料， 所述一个或多个前体供应装置（10，18，20）和所述一个或多个排放装置（8）布置成使得所述一种或多种前体材料流动通过位于前体供应装置（10，18，20）和排放装置（8）之间的所述反应空间（24）， 其特征在于，所述反应空间（24）沿着所述反应室（4）的所述侧壁（34）在第一边缘区部（36）处具有降低的高度（H5）。