[实用新型]阵列基板及显示装置有效

专利信息
申请号: 201320306425.6 申请日: 2013-05-30
公开(公告)号: CN203259747U 公开(公告)日: 2013-10-30
发明(设计)人: 崔贤植;李会;徐智强;严允晟 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开了一种阵列基板及显示装置,涉及显示领域,可降低阵列基板与彩膜基板对位偏差对透过率的影响,避免对位偏差导致的漏光。本实用新型所述阵列基板,包括:基板,形成于基板上的多个像素和分隔像素的黑矩阵;对应黑矩阵所在区域,基板上设置有栅极、栅绝缘层、半导体层、源电极和漏电极;像素的对应区域设置有用于产生电场以驱动液晶的第一电极和第二电极,第二电极设置在第一电极的上方,还包括:图案化的色阻层,所述色阻层设置在栅绝缘层与第二电极所在层之间,并且分布在像素的对应区域。本实用新型用于改进显示装置,可提高显示装置的透过率。
搜索关键词: 阵列 显示装置
【主权项】:
一种阵列基板,包括:基板,形成于所述基板上的多个像素和分隔所述像素的黑矩阵;对应所述黑矩阵所在区域,所述基板上设置有栅极、栅绝缘层、半导体层、源电极和漏电极;所述像素的对应区域设置有用于产生电场以驱动液晶的第一电极和第二电极,所述第二电极设置在所述第一电极的上方,其特征在于,还包括:图案化的色阻层,所述色阻层设置在所述栅绝缘层与所述第二电极所在层之间,并且分布在所述像素的对应区域。
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