[实用新型]一种带有传片腔的单反应腔薄膜沉积设备

摘要

本实用新型涉及半导体薄膜沉积设备，具体地说是一种带有传片腔的单反应腔薄膜沉积设备，包括分别安装在机架上的反应模块及传片模块，反应模块包括反应腔室组件、加热盘及喷淋头，喷淋头安装在反应腔室组件的上方，加热盘可上下移动地安装在反应腔室组件内；传片模块包括传片腔室组件及晶圆载台传送组件，在传片腔室组件及反应腔室组件的接触处分别开有传片口，晶圆载台传送组件可水平移动地安装在传片腔室组件内；反应腔室组件及传片腔室组件分别与提供真空环境的真空泵相连通。本实用新型由反应模块和传片模块组成，去掉了设备前端模块，降低了设备成本，操作及维护简单，且适用于有毒有害气体工艺。

主权项

一种带有传片腔的单反应腔薄膜沉积设备，包括分别安装在机架上的反应模块及传片模块，其特征在于：所述反应模块（1）包括反应腔室组件（11）、加热盘（12）及喷淋头（13），其中反应腔室组件（11）为内部中空结构，所述喷淋头（13）安装在反应腔室组件（11）的上方，所述加热盘（12）位于反应腔室组件（11）内部、可上下移动，工艺气体经喷淋头（13）导入到喷淋头（13）与加热盘（12）之间的反应区域（4），所述喷淋头（13）与安装在机架（7）上的射频电源（5）相连；所述传片模块（2）包括传片腔室组件（21）及晶圆载台传送组件（22），其中传片腔室组件（21）为内部中空结构，并与所述反应腔室组件（11）密封接触，在传片腔室组件（21）及反应腔室组件（11）的接触处分别开有传片口，其中传片腔室组件（21）的传片口设有传片门（213），所述晶圆载台传送组件（22）位于传片腔室组件（21）内部、可水平移动，经过所述传片口传送晶圆载台；所述反应腔室组件（11）及传片腔室组件（21）分别与提供真空环境的真空泵相连通，该反应腔室组件（11）及传片腔室组件（21）分别连接有回填管路（23）。