[实用新型]一种化学机械抛光排气系统

摘要

本实用新型提供一种化学机械抛光排气系统，包括三个可旋转的抛光盘、抛光压板、抛光液输送装置、修整器、三个研磨头、与研磨头相连的晶片承载槽、旋转轴以及马达，控制三个研磨头转动以交换位置的旋转支架，对应连接在三个抛光压板上并罩住研磨头的三个隔离排气罩；设置在隔离排气罩顶部的排气通口；对应与旋转轴连接并供旋转轴缩进或伸出的三个气缸；驱动气缸内旋转轴伸进或伸出的活塞及与活塞相连的压缩空气管路；罩住三个气缸、活塞及压缩空气管路以及旋转支架的旋转连接罩。本实用新型避免了晶片在抛光过程中浆液飞溅互相影响，使得研磨头的旋转速率可以分别控制，延长了抛光排气系统的寿命，增大晶片的产率。

主权项

一种化学机械抛光排气系统，包括三个可旋转的抛光盘、设置在每个抛光盘上的抛光压板、设置在抛光压板上的抛光液输送装置和修整器、对应位于抛光压板上方的三个研磨头、与研磨头相连的晶片承载槽、带动研磨头旋转的旋转轴以及驱动旋转轴旋转的马达以及控制三个研磨头转动以交换位置的旋转支架，其特征在于，所述抛光排气系统还包括： 对应连接在三个所述抛光压板上并罩住所述研磨头的三个隔离排气罩，每个所述隔离排气罩的顶端设有供所述旋转轴探出的通孔； 设置在隔离排气罩顶部的排气通口； 对应与所述旋转轴连接并供所述旋转轴缩进或伸出的三个气缸； 驱动所述气缸内旋转轴伸进或伸出的活塞及与所述活塞相连的压缩空气管路； 罩住所述三个气缸、活塞及压缩空气管路以及旋转支架的旋转连接罩。