[实用新型]一种化学机械抛光排气系统

权利要求书

1.一种化学机械抛光排气系统，包括三个可旋转的抛光盘、设置在每个抛光盘上的抛光压板、设置在抛光压板上的抛光液输送装置和修整器、对应位于抛光压板上方的三个研磨头、与研磨头相连的晶片承载槽、带动研磨头旋转的旋转轴以及驱动旋转轴旋转的马达以及控制三个研磨头转动以交换位置的旋转支架，其特征在于，所述抛光排气系统还包括： 

对应连接在三个所述抛光压板上并罩住所述研磨头的三个隔离排气罩，每个所述隔离排气罩的顶端设有供所述旋转轴探出的通孔； 

设置在隔离排气罩顶部的排气通口； 

对应与所述旋转轴连接并供所述旋转轴缩进或伸出的三个气缸； 

驱动所述气缸内旋转轴伸进或伸出的活塞及与所述活塞相连的压缩空气管路； 

罩住所述三个气缸、活塞及压缩空气管路以及旋转支架的旋转连接罩。 

2.根据权利要求1所述的化学机械抛光排气系统，其特征在于：所述压缩空气管路具有三个支管分别与三个活塞相连。 

3.根据权利要求1所述的化学机械抛光排气系统，其特征在于：所述隔离排气罩为圆筒形。 

4.根据权利要求3所述的化学机械抛光排气系统，其特征在于：所述隔离排气罩的圆截面的面积大于所述抛光压板的圆面积。 

5.根据权利要求1所述的化学机械抛光排气系统，其特征在于：每个所述排气通口为弯折形状。