[实用新型]一种基于量子点的复合紫外增强薄膜有效

专利信息
申请号: 201320095636.X 申请日: 2013-03-04
公开(公告)号: CN203218326U 公开(公告)日: 2013-09-25
发明(设计)人: 姜霖;陶春先;张大伟;王琦;黄元申;倪争技;庄松林 申请(专利权)人: 上海理工大学
主分类号: H01L33/50 分类号: H01L33/50;H01L33/00
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司 31001 代理人: 吴宝根
地址: 200093 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型公开一种基于量子点的复合紫外增强薄膜。所述基于量子点的复合紫外增强薄膜自下而上依次为底层石英基片、聚3,4-亚乙二氧基噻吩/聚苯乙烯磺酸薄膜层、聚4-丁基三苯胺薄膜层和量子点薄膜层,所述聚3,4-亚乙二氧基噻吩/聚苯乙烯磺酸薄膜层、聚4-丁基三苯胺薄膜层及量子点薄膜层通过旋涂法镀膜或提拉法镀膜而成。本实用新型的基于量子点的复合紫外增强薄膜由于含有了聚3,4-亚乙二氧基噻吩/聚苯乙烯磺酸薄膜层和聚4-丁基三苯胺薄膜层,从而减少基于量子点的单层紫外增强薄膜表面的光的散射,进而增强其发光能力,特别是深紫外波段发光效率得到增强,从而为量子点在紫外增强薄膜的应用提供了有效的手段。
搜索关键词: 一种 基于 量子 复合 紫外 增强 薄膜
【主权项】:
一种基于量子点的复合紫外增强薄膜,为层状结构,包括石英基片、量子点薄膜层,其特征在于还包括由聚3,4‑亚乙二氧基噻吩/聚苯乙烯磺酸薄膜层和聚4‑丁基三苯胺薄膜层;所述的一种基于量子点的复合紫外增强薄膜自下而上依次为底层石英基片、聚3,4‑亚乙二氧基噻吩/聚苯乙烯磺酸薄膜层、聚4‑丁基三苯胺薄膜层和最上层的量子点薄膜层;所述的量子点薄膜层即为CdSe/ZnS核壳结构量子点薄膜层;所述的聚3,4‑亚乙二氧基噻吩/聚苯乙烯磺酸薄膜层、聚4‑丁基三苯胺薄膜层及量子点薄膜层通过旋涂法镀膜或提拉法镀膜而成。
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