[发明专利]真空蒸镀装置及蒸镀方法有效

专利信息
申请号: 201310743673.1 申请日: 2013-12-30
公开(公告)号: CN103741097A 公开(公告)日: 2014-04-23
发明(设计)人: 匡友元 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/04
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 杨林;李友佳
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供的一种真空蒸镀装置,包括真空腔体、设于真空腔体内的蒸镀源以及置于所述蒸镀源上方的固定单元,所述蒸镀源包括加热容器和加热单元,其中,所述加热容器包括从下到上依次设置的材料容器、蒸汽容器以及输出单元,所述材料容器与蒸汽容器之间的第一隔板上设有第一气孔,所述蒸汽容器与输出单元之间的第二隔板上设有第二气孔,所述第一气孔的面积大于所述第二气孔的面积。本发明提供的真空蒸镀装置通过局限材料蒸汽的运动路径、控制材料蒸汽喷射角度范围来减少基板以外不必要区域的材料损耗,从而提高材料的利用率,降低制造成本。
搜索关键词: 真空 装置 方法
【主权项】:
一种真空蒸镀装置,包括真空腔体、设于真空腔体内的蒸镀源(10)以及设于蒸镀源(10)上方的固定单元,所述蒸镀源(10)包括加热容器和加热单元(140),其特征在于,所述加热容器包括从下到上依次设置的材料容器(110)、蒸汽容器(120)以及输出单元(130),所述材料容器(110)与蒸汽容器(120)之间的第一隔板(112)上设有第一气孔(113),所述蒸汽容器(120)与输出单元(130)之间的第二隔板(122)上设有第二气孔(123),所述第一气孔(113)的面积大于所述第二气孔(123)的面积。
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