[发明专利]真空蒸镀装置及蒸镀方法有效

专利信息
申请号: 201310743673.1 申请日: 2013-12-30
公开(公告)号: CN103741097A 公开(公告)日: 2014-04-23
发明(设计)人: 匡友元 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/04
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 杨林;李友佳
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 真空 装置 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及显示技术领域,具体而言涉及一种真空蒸镀装置及蒸镀方法。

背景技术

平面显示器件具有机身薄、省电、无辐射等众多优点,得到了广泛的应用。现有的平面显示器件主要包括液晶显示器件(Liquid Crystal Display,LCD)及有机电致发光显示器件(Organic Light Emitting Display,OLED)。

现有的液晶显示器件一般为背光型液晶显示器件,其包括:壳体、设于壳体内的液晶显示面板及设于壳体内的背光模组(backlight module)。液晶显示面板的工作原理是在两片平行的玻璃基板当中放置液晶分子,并在两玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶分子的旋转,从而将背光模组的光线折射出来产生画面。

有机发光显示器件与传统的液晶显示器件不同,其无需背光灯,直接在玻璃基板上设置非常薄的有机材料涂层,当有电流通过时,这些有机材料涂层就会发光。因此,有机电致发光显示器件具备自发光、高亮度、宽视角、高对比度、可挠曲、低能耗等特性。目前,有机发光显示器件受到广泛的关注,并作为新一代的显示方式,已开始逐渐取代传统液晶显示器件,被广泛应用在手机屏幕、电脑显示器、全彩电视机等领域。

在有机发光面板的制程中,需要在基板上形成有机发光层,即在基板上生长有机发光二极管。目前,有机发光二极管主要采用加热蒸发镀膜的方式进行生长。参阅图1,为现有技术提供的真空蒸镀装置,包括真空腔体、设于真空腔体内部的蒸镀源30以及位于蒸镀源之上的固定板210。其中,蒸镀源30包括材料容器310和设于材料容器310外部的加热源320。在制作有机发光面板时,将基板220和掩模板230依次置于固定板210的下方,其基板220欲沉积蒸镀材料的一面朝向蒸镀源30,其中固定板210用于固定基板220和掩模板230,同时还用于对基板220散热。加热源320对材料容器310加热,材料容器310内部的蒸镀材料受热成为材料蒸汽喷射进入真空腔体内,材料蒸汽通过掩模板230的开口区沉积在基板220上。然而,在蒸镀的过程中,材料蒸汽从材料容器310出来后向四面八方喷射出去,其喷射角度最大可达180度,而基板220的面积有限,辐射到基板220以外的材料蒸汽会被损耗,从而降低了材料的利用率,进而增加制造成本。

发明内容

为解决上述现有技术所存在的问题,本发明的目的在于提供一种真空蒸镀装置,该装置通过控制材料蒸汽喷射角度范围来减少基板以外不必要区域的材料损耗,从而提高材料的利用率,降低制造成本。

为了实现上述目的,本发明提供的一种真空蒸镀装置,包括蒸镀源和置于所述蒸镀源上方的固定单元,所述蒸镀源包括加热容器和加热单元,其中,所述加热容器包括从下到上依次设置的材料容器、蒸汽容器以及输出单元,所述材料容器与蒸汽容器之间的第一隔板上设有第一气孔,所述蒸汽容器与输出单元之间的第二隔板上设有第二气孔,所述第一气孔的面积大于所述第二气孔的面积。

优选地,所述加热单元设于所述材料容器和蒸汽容器的外部,用于给所述材料容器和蒸汽容器加热。

优选地,所述输出单元具有光滑的内壁。

优选地,所述加热容器包括一个输出单元。

优选地,所述加热容器包括多个输出单元。

优选地,所述多个输出单元呈线状排列。

优选地,所述多个输出单元呈面状排列。

优选地,所述真空蒸镀装置还包括用于带动蒸镀源或者固定单元旋转的动力机构。

本发明的另一目的在于提供一种真空蒸镀方法,使用如上所述的真空蒸镀装置进行蒸镀,包括步骤:

提供一基板和掩模板,将基板固定于固定单元下方,掩模板置于基板的正下方;

加热单元对加热容器进行加热,使蒸镀材料蒸发为材料蒸汽进入到蒸汽容器中;

材料蒸汽从输出单元喷出,通过掩模板的开口区沉积在基板上。

有益效果:

本发明提供的真空蒸镀装置通过局限材料蒸汽的运动路径、控制材料蒸汽喷射角度范围来减少基板以外不必要区域的材料损耗,从而提高材料的利用率,降低制造成本。同时,本发明提供的真空蒸镀装置将一个输出单元扩散为多个,并排列成线状或者面状,在提高了基板上沉积的蒸镀材料的均匀性的同时也增大了沉积速率,进一步降低了制造成本。

附图说明

图1为现有技术提供的真空蒸镀装置结构示意图。

图2为本发明实施例1提供的真空蒸镀装置结构示意图。

图3为本发明实施例2提供的真空蒸镀装置结构示意图。

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