[发明专利]一种具有光催化性能的三氧化钨纳米薄膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201310730806.1 申请日: 2013-12-19
公开(公告)号: CN103708559A 公开(公告)日: 2014-04-09
发明(设计)人: 巩金龙;张冀杰;王拓;张鹏;李长江;常晓侠 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: C01G41/02 分类号: C01G41/02;B82Y30/00;C03C17/23;B01J23/20;C01B3/04
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 琪琛
地址: 300072*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明公开了一种具有光催化性能的三氧化钨纳米薄膜及其制备方法,三氧化钨纳米薄膜在WO3晶种层上生长有WO3纳米结构构成的WO3纳米层,WO3纳米结构由中间主干片和纳米柱构成二维飞碟状。三氧化钨纳米薄膜的制备方法包括制备钨酸晶种层前驱体溶液,制备带有晶种层的FTO导电玻璃,制备钨酸溶剂热前驱体溶液,以及最后通过水热合成得到三氧化钨纳米薄膜四个步骤。本发明有效的增大了WO3纳米层的比表面积;提高了光解水的效率,光电化学池光解水性能优越,具有良好的化学稳定性,并且制备方法简单,可实现低成本、大规模的应用。
搜索关键词: 一种 具有 光催化 性能 氧化钨 纳米 薄膜 及其 制备 方法
【主权项】:
一种具有光催化性能的三氧化钨纳米薄膜,包括生长在衬底上的WO3晶种层,其特征在于,所述WO3晶种层上生长有WO3纳米结构构成的WO3纳米层;所述衬底为FTO导电玻璃;所述WO3纳米结构由中间主干片和纳米柱构成二维飞碟状,所述中间主干片垂直生长于所述WO3晶种层,所述纳米柱垂直生长于所述中间主干片的两面,并在所述中间主干片上呈中间高两边低的形态;所述WO3纳米层的厚度为1000‑2000nm,所述中间主干片的厚度为50‑100nm,所述纳米柱的高度为200‑600nm。
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