[发明专利]一种具有光催化性能的三氧化钨纳米薄膜及其制备方法有效
申请号: | 201310730806.1 | 申请日: | 2013-12-19 |
公开(公告)号: | CN103708559A | 公开(公告)日: | 2014-04-09 |
发明(设计)人: | 巩金龙;张冀杰;王拓;张鹏;李长江;常晓侠 | 申请(专利权)人: | 天津大学 |
主分类号: | C01G41/02 | 分类号: | C01G41/02;B82Y30/00;C03C17/23;B01J23/20;C01B3/04 |
代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人: | 琪琛 |
地址: | 300072*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明公开了一种具有光催化性能的三氧化钨纳米薄膜及其制备方法,三氧化钨纳米薄膜在WO3晶种层上生长有WO3纳米结构构成的WO3纳米层,WO3纳米结构由中间主干片和纳米柱构成二维飞碟状。三氧化钨纳米薄膜的制备方法包括制备钨酸晶种层前驱体溶液,制备带有晶种层的FTO导电玻璃,制备钨酸溶剂热前驱体溶液,以及最后通过水热合成得到三氧化钨纳米薄膜四个步骤。本发明有效的增大了WO3纳米层的比表面积;提高了光解水的效率,光电化学池光解水性能优越,具有良好的化学稳定性,并且制备方法简单,可实现低成本、大规模的应用。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 光催化 性能 氧化钨 纳米 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种具有光催化性能的三氧化钨纳米薄膜,包括生长在衬底上的WO3晶种层,其特征在于,所述WO3晶种层上生长有WO3纳米结构构成的WO3纳米层;所述衬底为FTO导电玻璃;所述WO3纳米结构由中间主干片和纳米柱构成二维飞碟状,所述中间主干片垂直生长于所述WO3晶种层,所述纳米柱垂直生长于所述中间主干片的两面,并在所述中间主干片上呈中间高两边低的形态;所述WO3纳米层的厚度为1000‑2000nm,所述中间主干片的厚度为50‑100nm,所述纳米柱的高度为200‑600nm。
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