[发明专利]一种化学机械抛光液在审
| 申请号： | 201310729231.1 | 申请日： | 2013-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN104745093A | 公开（公告）日： | 2015-07-01 |
| 发明（设计）人： | 房庆华;尹先升;荆建芬;周仁杰;王雨春 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种化学机械抛光液，含有二氧化铈研磨颗粒，一种或多种化学添加剂及水，本发明的抛光液不包含化学氧化剂，研磨颗粒的添加量很低，可以在碱性条件下，对多晶硅和氧化硅同时保持较高的移除速率，调节不同的选择比，具有不同的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光液，其特征在于，含有二氧化铈研磨颗粒，一种或多种化学添加剂及水。
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