[发明专利]一种化学机械抛光液在审
| 申请号: | 201310729231.1 | 申请日: | 2013-12-26 |
| 公开(公告)号: | CN104745093A | 公开(公告)日: | 2015-07-01 |
| 发明(设计)人: | 房庆华;尹先升;荆建芬;周仁杰;王雨春 | 申请(专利权)人: | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02;C09K3/14 |
| 代理公司: | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人: | 李佳铭 |
| 地址: | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 化学 机械抛光 | ||
1.一种化学机械抛光液,其特征在于,含有二氧化铈研磨颗粒,一种或多种化学添加剂及水。
2.如权利要求1所述的化学机械抛光液,其特征在于,其中所述的化学添加剂为一种或多种含氮化合物。
3.如权利要求2所述的化学机械抛光液,其特征在于,其中所述的含氮化合物为唑类化合物和胍类化合物。
4.如权利要求3所述的化学机械抛光液,其特征在于,其中所述的唑类化合物为三氮唑和/或四氮唑。
5.如权利要求4所述的化学机械抛光液,其特征在于,其中所述的三氮唑和四氮唑选自苯并三氮唑、5‐甲基‐1,2,3‐苯并三氮唑、5‐羧基苯并三氮唑、1‐羟基‐苯并三氮唑、1,2,4‐三氮唑、3‐氨基‐1,2,4‐三氮唑、4‐氨基‐1,2,4‐三氮唑、3,5‐二氨基‐1,2,4‐三氮唑、5‐羧基‐3‐氨基‐1,2,4‐三氮唑、3‐氨基‐5‐巯基‐1,2,4‐三氮唑、5‐乙酸‐IH‐四氮唑、5‐甲基四氮唑、5‐氨基‐IH‐四氮唑、1‐苯基‐5‐巯基‐四氮唑、5‐氨基四氮唑中的一种或多种。
6.如权利要求3所述的化学机械抛光液,其特征在于,其中所述的胍类化合物为单胍、双胍、聚胍类化合物及其酸加成盐。
7.如权利要求6所述的化学机械抛光液,其特征在于,其中所述的单胍类化合物及其酸加成盐选自胍、碳酸胍、乙酸胍、磷酸氢二胍、盐酸胍、硝酸胍、硫酸胍、氨基胍、氨基胍碳酸氢盐、氨基胍磺酸盐、氨基胍硝酸盐或氨基胍盐酸中的一种或多种;双胍类化合物或其酸加成盐选自双胍、二甲双胍、苯乙双胍、1,1’‐己基双[5_(对氯苯基)双胍或吗啉胍、上述化合物的酸加成盐或6‐脒基‐2‐萘基4胍基苯甲酸酯甲基磺酸盐中的一种或多种,且所述酸为盐酸、磷酸、硝酸、醋酸、葡萄糖酸或磺酸;所述的聚胍或其酸加成盐为聚六亚甲基胍、聚六亚甲基双胍、聚(六亚甲基双氰基胍‐六亚甲基二胺)或其酸加成盐,且所述的酸为盐酸、磷酸、硝酸、醋酸、葡萄糖酸或磺酸,聚胍类化合物或其酸加成盐的聚合度为2~100。
8.如权利要求1所述的化学机械抛光液,其特征在于,其中所述的氧化铈研磨颗粒粒径为150~300纳米。
9.如权利要求1所述的化学机械抛光液,其特征在于,其中所述的氧化铈研磨颗粒的浓度为质量百分比0.1~1%。
10.如权利要求2所述的化学机械抛光液,其特征在于,其中所述的含氮化合物的浓度为质量百分比0.1~1%。
11.如权利要求1所述的化学机械抛光液,其特征在于,其中所述的化学机械抛光液的pH值为10~12。
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