[发明专利]一种化学机械抛光液以及抛光方法在审
| 申请号： | 201310726697.6 | 申请日： | 2013-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN104745082A | 公开（公告）日： | 2015-07-01 |
| 发明（设计）人： | 高嫄;荆建芬;陈宝明 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种化学机械抛光液在提高二氧化硅/氮化硅选择比中的应用，化学机械抛光液包含研磨颗粒，含硅的有机化合物，大于或等于0.1mol/Kg的离子强度的电解质离子，以及含氮化合物，且所述含硅的有机化合物为以下通式，其中，R为不能水解的取代基，D是连接在R上的有机官能团，其可与有机物质反应而结合，A,B为相同的或不同的可水解的取代基或羟基，C是可水解基团或羟基，或不可水解的烷基取代基。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 以及 抛光 方法 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光液在提高二氧化硅/氮化硅选择比中的应用，其特征在于，所述化学机械抛光液包含研磨颗粒，含硅的有机化合物，大于或等于0.1mol/Kg的离子强度的电解质离子，以及含氮化合物，且所述含硅的有机化合物为以下通式，其中，R为不能水解的取代基，D是连接在R上的有机官能团，其可与有机物质反应而结合，A,B为相同的或不同的可水解的取代基或羟基，C是可水解基团或羟基，或不可水解的烷基取代基。
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