[发明专利]制备薄铁片的工艺方法在审
申请号: | 201310647867.1 | 申请日: | 2013-12-02 |
公开(公告)号: | CN103757678A | 公开(公告)日: | 2014-04-30 |
发明(设计)人: | 郑惠娣 | 申请(专利权)人: | 郑惠娣 |
主分类号: | C25D5/56 | 分类号: | C25D5/56;C25D3/20;C25D7/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 116000 辽宁省大连*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明公开了一种制备薄铁片的工艺方法,在薄膜基材上预设铝、镁、锌等活跃金属的分离层;在分离层上进行铁的电镀,直到沉积至要求的厚度;把镀好的薄膜置入盐酸、硫酸或硝酸溶液酸性溶液中,也可置入氢氧化钠、氢氧化钾或氢氧化钙碱性溶液中充分接触,溶液渗入分离层,溶解产生氢气或氧气扩张分离层,使金属薄层与基膜完全分离;将薄铁片捞起,清洗并晾干。本发明提供一种无杂质、含铁纯度高、成本低、劳动生产率高的一种薄铁片的工艺方法。 | ||
搜索关键词: | 制备 铁片 工艺 方法 | ||
【主权项】:
制备薄铁片的工艺方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)在薄膜基材上预设铝、镁、锌等活跃金属的分离层;(2)在分离层上进行铁的电镀,直到沉积至要求的厚度;(3)把镀好的薄膜置入盐酸、硫酸或硝酸溶液酸性溶液中,也可置入氢氧化钠、氢氧化钾或氢氧化钙碱性溶液中充分接触,溶液渗入分离层,溶解产生氢气或氧气扩张分离层,使金属薄层与基膜完全分离。
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