[发明专利]高效率斜双层光栅有效
| 申请号： | 201310645651.1 | 申请日： | 2013-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN103675969A | 公开（公告）日： | 2014-03-26 |
| 发明（设计）人： | 周常河;李树斌;曹红超;吴俊;刘昆;卢炎聪 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种用于1064纳米波长的TE偏振的垂直入射的-1级高效率斜双层光栅，该光栅的第一层材料是石英，第二层材料是Ta2O5,基底是石英，两层光栅的深度相同。该光栅的光栅周期为950～954纳米，脊宽为441～445纳米，倾斜角68～69度，光栅总深度为2046～2050纳米，当TE偏振光垂直入射时，其透射光-1级衍射效率可高于91%。本发明TE偏振的垂直入射的石英-1级高效率斜双层光栅由电子束直写装置结合微电子深刻蚀工艺加工而成，取材方便，造价小，能大批量生产，具有重要的实用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 高效率 双层 光栅 | ||
【主权项】：
一种用于1064纳米波长的TE偏振的垂直入射的‑1级高效率斜双层光栅，该光栅的第一层材料是石英，第二层材料是Ta2O5,基底是石英，两层光栅的深度相同。其特征在于光栅的光栅周期为950～954纳米，脊宽为441～445纳米，倾斜角68～69度，光栅总深度为2046～2050纳米。
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