[发明专利]一种检测装置、阵列基板检测系统及其方法有效
| 申请号： | 201310630165.2 | 申请日： | 2013-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN103676234A | 公开（公告）日： | 2014-03-26 |
| 发明（设计）人： | 卢彦春 | 申请（专利权）人： | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 230012 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种检测装置、阵列基板检测系统及其方法，涉及基板测试技术领域。能够同时对阵列基板上反射率差异较大的各个膜层进行不良检测。该阵列基板检测系统包括检测装置，该检测装置通过采集装置可以生成待测基板上反射率不同的各个膜层表面的灰阶图片，再利用处理器根据上述灰阶图片，得出待测基板的缺陷坐标图。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 检测 装置 阵列 系统 及其 方法 | ||
【主权项】：
一种检测装置，包括用于承载待测基板的承载台，所述承载台一侧设置有光源，所述光源发出的光线通过分束器照射到所述待测基板的表面，经过反射后进入所述分束器并输出，其特征在于，所述检测装置还包括：第一半反半透镜，与所述分束器输出的光线之间具有预设夹角，用于将所述分束器输出的光线分为第一光束和第二光束；采集装置，用于采集所述第一光束和所述第二光束，根据所述第一光束和所述第二光束生成所述待测基板上第一膜层表面和第二膜层表面的灰阶图片；其中，所述第一膜层具有第一反射率；所述第二膜层具有第二反射率，所述第二反射率与所述第一反射率不同；处理器，用于将所述采集装置生成的灰阶图片进行对比得出所述待测基板的缺陷坐标图。
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