[发明专利]一种检测装置、阵列基板检测系统及其方法

说明书

技术领域

本发明涉及基板测试技术领域，尤其涉及一种检测装置、阵列基板检测系统及其方法。

背景技术

TFT-LCD（Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜晶体管液晶显示器）作为一种平板显示装置，因其具有体积小、功耗低、无辐射以及制作成本相对较低等特点，而越来越多地被应用于高性能显示领域当中。现有TFT-LCD的制造工艺主要包括四个阶段，分别为彩色滤光片制备、Array（阵列基板制造）工艺、Cell（液晶盒制备）工艺以及Module（模块组装）工艺。作为TFT-LCD生产的一个重要环节，Array工艺通常是在一张玻璃基板上形成独立的TFT阵列电路，每个阵列电路分别对应一个像素单元，阵列电路的质量将直接影响产品的显示质量。

为了及时发现阵列基板制作存在的各种不良，确保阵列基板的质量，在Array工艺过程中或在Array工艺之后，需要对TFT阵列基板进行检测，以确定其中是否存在短路、断路等不良现象。

目前可以采用光学检测设备对TFT阵列基板进行检测。具体的，该光学检测设备如图1所示，光源系统10传出光源，该光源通过半反半透镜11进行透射后，再通过透镜装置12汇聚传输到阵列基板13的表面；该光线在阵列基板13的表面反射后经过透镜装置12传输到半反半透镜11的反射面，然后传输至全反射镜14，最后被CCD感光元件15（Charge Coupled Device，电荷耦合器件）接收。这样一来，通过CCD接收照射在阵列基板上的光线，并根据接收光线灰度值的不同来判断该阵列基板是否存在不良。

然而，由于阵列基板是由多个膜层构成的，在测试时各个膜层的反射率差异很大。因此，现有的光学检测设备在对阵列基板进行检测时存在以下问题：

当光源系统10提供的光线光强较高时，可以检测到阵列基板上反射率较低的膜层，但是这样一来，阵列基板上反射率较高的膜层会反射出光强更高的光线，从而导致检测设备出现误报错。

当光源系统10提供的光线光强较低时，可以检测到阵列基板上反射率较高的膜层，但是这样一来，反射率较低的膜层几乎无发将入射到的光线反射至CCD，从而使得反射率较低的膜层出现被漏检的可能。

因此，当阵列基板上的膜层之间的反射率差异较大时，现有的光学检测设备无法同时对各个膜层的不良进行检测，而只能有选择性的进行检测。从而导致工艺监控的部分失效，影响对后续制作工艺结果的判断，大大降低制作工艺的稳定性。

发明内容

本发明的实施例提供一种检测装置、阵列基板检测系统及其方法。能够同时对阵列基板上反射率差异较大的各个膜层进行不良检测。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

本发明实施例的一方面提供一种检测装置，包括用于承载待测基板的承载台，所述承载台一侧设置有光源，所述光源发出的光线通过分束器照射到所述待测基板的表面，经过反射后进入所述分束器并输出，其特征在于，所述检测装置还包括：

第一半反半透镜，与所述分束器输出的光线之间具有预设夹角，用于将所述分束器输出的光线分为第一光束和第二光束；

采集装置，用于采集所述第一光束和所述第二光束，根据所述第一光束和所述第二光束生成所述待测基板上第一膜层表面和第二膜层表面的灰阶图片；其中，所述第一膜层具有第一反射率；所述第二膜层具有第二反射率，所述第二反射率与所述第一反射率不同；

处理器，用于将所述采集装置生成的灰阶图片进行对比得出所述待测基板的缺陷坐标图。

本发明实施例的另一方面提供一种阵列基板检测系统，包括如上所述的任意一种检测装置。

本发明实施例的又一方面提供一种阵列基板检测系统的检测方法，包括参数处理的步骤、待测基板检测的步骤以及缺陷确认的步骤，其特征在于，所述待测基板检测的步骤包括：

光源发出的光线通过分束器照射到待测基板的表面，经过反射后进入所述分束器并输出；

第一半反半透镜将分束器输出的光线分为第一光束和第二光束；

采集装置采集所述第一光束和所述第二光束，根据所述第一光束和所述第二光束生成所述待测基板上第一膜层表面和第二膜层表面的灰阶图片；其中，所述第一膜层具有第一反射率；所述第二膜层具有第二反射率，所述第二反射率与所述第一反射率不同；

处理器将所述采集装置生成的灰阶图片进行对比得出所述待测基板的缺陷坐标图。