[发明专利]一种化学机械抛光液及其应用在审
| 申请号： | 201310596267.7 | 申请日： | 2013-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN104650738A | 公开（公告）日： | 2015-05-27 |
| 发明（设计）人： | 王晨;周仁杰;何华锋 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种碱性化学机械抛光液，含有水、至少两种不同种类的二氧化硅研磨剂、有机磷酸络合剂、腐蚀抑制剂、聚乙烯吡咯烷酮、氧化剂。本发明的抛光液可以大幅提高钽和二氧化硅的抛光速度、并控制铜的抛光速度，从而有效抑制侵蚀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 及其 应用 | ||
【主权项】：
一种碱性化学机械抛光液，含有水、至少两种不同种类的二氧化硅研磨剂、有机磷酸络合剂、腐蚀抑制剂、聚乙烯吡咯烷酮、氧化剂。
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