[发明专利]一种新型镍模板的制备方法无效
| 申请号： | 201310541745.4 | 申请日： | 2013-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN103576446A | 公开（公告）日： | 2014-02-12 |
| 发明（设计）人： | 杨涛;袁长胜 | 申请（专利权）人： | 无锡英普林纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 南京知识律师事务所 32207 | 代理人： | 李媛媛 |
| 地址： | 214192 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于纳米微加工与应用领域，具体涉及用纳米压印、物理气相沉积、化学电镀方法复制制备镍模板。首先利用相干光曝光技术制备所需结构的硅模板A；然后在防粘好的硅模板表面浇铸一层PDMS，放入真空烘箱中在一定温度下固化；接着，揭模，得到PDMS的软模板B；再在PDMS软模板上蒸镀一层60nm的镍，将这种结构放入特定的电镀液中进行电镀，得到厚度为300μm-500μm的镀层；除去电镀完样品背面PDMS层，即可得到复制出的镍模板结构C。本发明结合化学电镀制备出的镍模板，结构均匀，致密性好，而且其自身的机械强度高，可以长期用作后期热压印过程中的模板。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 新型 模板 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种新型镍模板的制备方法，其特征在于，具体步骤如下：a)利用相干光曝光制备纳米压印母模板A；b)将防粘处理好的纳米压印母模板A表面浇铸一层PDMS，在80℃的真空烘箱中放置4个小时进行固化；c)揭模，得到与母模板A结构互补的PDMS软模板B，再利用物理气相沉积方法在PDMS软模板B的结构那一面蒸镀一层金属镍；d)将蒸镀镍的PDMS软模板B放入电镀液中电镀，得到镍镀层；e)揭模除去电镀完样品背面的PDMS支撑层，即可得到复制了母模板A结构的镍模板C。
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