[发明专利]一种基于深度参考平面的无干扰的光编码深度提取方法有效
申请号: | 201310534613.9 | 申请日: | 2013-11-01 |
公开(公告)号: | CN103561257A | 公开(公告)日: | 2014-02-05 |
发明(设计)人: | 刘荣科;袁鑫;葛帅;关博深;潘宇 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
主分类号: | H04N13/02 | 分类号: | H04N13/02;H04N5/33;G06T7/00 |
代理公司: | 北京永创新实专利事务所 11121 | 代理人: | 姜荣丽 |
地址: | 100191*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于深度参考平面的无干扰的光编码深度提取方法。所述提取方法预存储多光编码深度相机在深度参考平面上形成的散斑图案在模板库中,将光编码深度相机获取的实际场景的散斑图案,与模板库中相应深度参考平面内的散斑图案进行相似度匹配,得到深度图。本发明可以有效地去除多光编码深度相机之间产生的干扰,并且不限制光编码深度相机的数量;通过调节深度参考平面之间的间距以及参考平面的数量,可以使本方法在计算的时间和去干扰的效果之间自由调节,用户在使用时可选择自己需要的深度参考平面数量和间距实施本方法。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 深度 参考 平面 干扰 编码 提取 方法 | ||
【主权项】:
一种基于深度参考平面的无干扰的光编码深度提取方法,其特征在于:包括如下步骤:第一步,对光编码深度相机进行排布,并对光编码深度相机进行校准;第二步,针对每台光编码深度相机设置一系列的深度参考平面,记录光编码深度相机在深度参考平面上形成的散斑图案,将图案存储在模板库,具体为:对于光编码深度相机C1,在与光编码深度相机C1光心距离为d0的光轴位置上假设有一个垂直于光轴的深度参考平面A1,该深度参考平面A1相对于光编码深度相机C1的深度值为d0,从d0位置开始,每隔一个等长的深度差值Δd,都假设有一个深度参考平面在该深度上与光轴垂直,将一系列深度参考平面记为A1,A2,...,AK,深度参考平面Ak距离光编码深度相机光心的深度值D(Ak)如公式(2):D(Ak)=d0+(k‑1)·Δd,1≤k≤K (2)对于光编码深度相机C1的一系列深度参考平面A1,A2,...,AK,在每一个深度参考平面的位置上放置一块平板,用于接收光编码深度相机发射的散斑图案;打开所有的光编码深度相机,让所有的光编码深度相机在深度参考平面A1上投射散斑图案;此时在深度参考平面A1上形成散斑图案,将光编码深度相机C1所拍摄到的深度参考平面A1上的散斑图案记录下来,存储在计算机的模板库中;对每一台光编码深度相机C1,C2,...,CN重复进行以上过程,记录所有的深度参考平面的散斑图案,并存储在计算机的模板库中;第三步,将光编码深度相机获取的实际场景的散斑图案,与模板库中相应深度参考平面内的散斑图案进行相似度匹配,得到深度图。
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