[发明专利]一种对位精度检测方法及系统在审
申请号: | 201310518659.1 | 申请日: | 2013-10-29 |
公开(公告)号: | CN103529659A | 公开(公告)日: | 2014-01-22 |
发明(设计)人: | 王艳升;李显杰 | 申请(专利权)人: | 天津芯硕精密机械有限公司 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00;G01B5/02;G01B5/24 |
代理公司: | 天津市三利专利商标代理有限公司 12107 | 代理人: | 闫俊芬 |
地址: | 300457 天津市*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明提供了一种对位精度检测方法,包括如下步骤:第1步,利用试验板上的同一组对位标记来进行对准;第2步,利用所述对位标记进行第一次对准曝光,曝出第一组标尺;再次利用所述对位标记进行第二次对准曝光,曝出第二组标尺;第3步,所述试验板显影后观察两组标尺完全对齐的刻度线,获取X,Y两个方向的偏移方向与偏移量。本发明的有益效果为,本发明可对高对位精度镭射直接成像设备的重复对位精度与层间对位精度进行检测,具备自身影响转移的特征且精度高最小误差可达到1um,另外,利用本发明无需进行量测,直接观察便可以很精确的知道检测精度,避免了因量测设备的精度及量测误差的存在。 | ||
搜索关键词: | 一种 对位 精度 检测 方法 系统 | ||
【主权项】:
一种对位精度检测方法,其特征在于,包括如下步骤:第1步,利用试验板上的同一组对位标记来进行对准;第2步,利用所述对位标记进行第一次对准曝光,曝出第一组标尺;再次利用所述对位标记进行第二次对准曝光,曝出第二组标尺;第3步,所述试验板显影后观察两组标尺完全对齐的刻度线,获取X,Y两个方向的偏移方向与偏移量。
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