[发明专利]一种对位精度检测方法及系统

权利要求书

1.一种对位精度检测方法，其特征在于，包括如下步骤：

第1步，利用试验板上的同一组对位标记来进行对准；

第2步，利用所述对位标记进行第一次对准曝光，曝出第一组标尺；再次利用所述对位标记进行第二次对准曝光，曝出第二组标尺；

第3步，所述试验板显影后观察两组标尺完全对齐的刻度线，获取X,Y两个方向的偏移方向与偏移量。

2.根据权利要求1中所述的对位精度检测方法，其特征在于，所述试验板为PCB或其它对位标记载体。

3.根据权利要求1或2中所述的对位精度检测方法，其特征在于，所述第一次对准曝光和所述第二次对准曝光包括对试验板进行重复对位曝光和层间对位曝光。

4.根据权利要求3所述的对位精度检测方法，其特征在于，所述两组标尺的原点刻度相邻靠齐不重合，所述第一组标尺的间距需要比所述第二组标尺的间距大Xum，Xum则为此次检测的最小精度，每组标尺需要设计X与Y方向的标尺用来监控两个方向的偏移量。

5.一种对位精度检测系统，其特征在于，包括对准单元、曝光单元、偏移观察单元，所述对准单元用于，利用试验板上的同一组对位标记来进行对准；所述曝光单元用于，利用所述对位标记进行第一次对准曝光，曝出第一组标尺；再次利用所述对位标记进行第二次对准曝光，曝出第二组标尺；所述偏移观察单元用于，所述试验板显影后观察两组标尺完全对齐的刻度线，获取X,Y两个方向的偏移方向与偏移量。

6.根据权利要求5中所述的对位精度检测系统，其特征在于，所述试验板为PCB或其它对位标记载体。

7.根据权利要求5或6中所述的对位精度检测系统，其特征在于，所述第一次对准曝光和所述第二次对准曝光包括对试验板进行重复对位曝光和层间对位曝光。

8.根据权利要求7所述的对位精度检测系统，其特征在于，所述两组标尺的原点刻度相邻靠齐不重合，所述第一组标尺的间距需要比所述第二组标尺的间距大Xum，Xum则为此次检测的最小精度，每组标尺需要设计X与Y方向的标尺用来监控两个方向的偏移量。