[发明专利]光敏二极管有效
申请号: | 201310506692.2 | 申请日: | 2013-10-23 |
公开(公告)号: | CN103606587A | 公开(公告)日: | 2014-02-26 |
发明(设计)人: | 张宁;王本艳;刘小玲 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | H01L31/103 | 分类号: | H01L31/103;H01L31/0352;H01L27/144 |
代理公司: | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人: | 竺路玲 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种光敏二极管,在一P型衬底中形成有N型阱区,N型阱区的表面设有硅化物层,硅化物层的表面设置有多晶硅层;位于硅化物层左右两侧的N型阱区中分别设置有第一P型有源区和第二P型有源区,第一、第二P型有源区的表面分别设置有第一、第二接触孔,第一接触孔内侧与第二接触孔内侧之间构成感光区;位于第一P型有源区左侧的N型阱区内还设置有第一N型重掺杂区域,位于第二P型有源区右侧的N型阱区内还设置有第二N型重掺杂区域;位于第一N型重掺杂区域的左右两侧的P型衬底中分别设有第三、第四P型重掺杂区域,第一、第二N型重掺杂区域和第三、第四P型重掺杂区域中分别设置有第三、第四、第五、第六接触孔。 | ||
搜索关键词: | 光敏 二极管 | ||
【主权项】:
一种光敏二极管,包括:多晶硅层、硅化物层、P型重掺杂区域、N型重掺杂区域、N型阱区、P型衬底和接触孔,其特征在于,所述P型衬底中形成有所述N型阱区,所述N型阱区的表面设有硅化物层,所述硅化物层的表面设置有多晶硅层;位于所述硅化物层左侧的N型阱区内设置有第一P型有源区,位于所述硅化物层右侧的N型阱区内设置有第二P型有源区,所述第一P型有源区和所述第二P型有源区通过所述硅化物层隔开;所述第一P型有源区的表面设置有第一接触孔,所述第二P型有源区的表面设置有第二接触孔,所述第一接触孔内侧与所述第二接触孔内侧之间构成感光区;位于所述第一P型有源区左侧的N型阱区内还设置有第一N型重掺杂区域,位于所述第二P型有源区右侧的N型阱区内还设置有第二N型重掺杂区域;所述第一N型重掺杂区域的表面设置有第三接触孔,所述第二N型重掺杂区域的表面设置有第四接触孔;位于所述第一N型重掺杂区域左侧的P型衬底中设置有第三P型重掺杂区域,位于所述第二N型重掺杂区域右侧的P型衬底中设置有第四P型重掺杂区域;所述第三P型重掺杂区域的表面设置有第五接触孔,所述第四P型重掺杂区域的表面设置有第六接触孔。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的