[发明专利]光敏二极管有效

专利信息
申请号: 201310506692.2 申请日: 2013-10-23
公开(公告)号: CN103606587A 公开(公告)日: 2014-02-26
发明(设计)人: 张宁;王本艳;刘小玲 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: H01L31/103 分类号: H01L31/103;H01L31/0352;H01L27/144
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 竺路玲
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种光敏二极管,在一P型衬底中形成有N型阱区,N型阱区的表面设有硅化物层,硅化物层的表面设置有多晶硅层;位于硅化物层左右两侧的N型阱区中分别设置有第一P型有源区和第二P型有源区,第一、第二P型有源区的表面分别设置有第一、第二接触孔,第一接触孔内侧与第二接触孔内侧之间构成感光区;位于第一P型有源区左侧的N型阱区内还设置有第一N型重掺杂区域,位于第二P型有源区右侧的N型阱区内还设置有第二N型重掺杂区域;位于第一N型重掺杂区域的左右两侧的P型衬底中分别设有第三、第四P型重掺杂区域,第一、第二N型重掺杂区域和第三、第四P型重掺杂区域中分别设置有第三、第四、第五、第六接触孔。
搜索关键词: 光敏 二极管
【主权项】:
一种光敏二极管,包括:多晶硅层、硅化物层、P型重掺杂区域、N型重掺杂区域、N型阱区、P型衬底和接触孔,其特征在于,所述P型衬底中形成有所述N型阱区,所述N型阱区的表面设有硅化物层,所述硅化物层的表面设置有多晶硅层;位于所述硅化物层左侧的N型阱区内设置有第一P型有源区,位于所述硅化物层右侧的N型阱区内设置有第二P型有源区,所述第一P型有源区和所述第二P型有源区通过所述硅化物层隔开;所述第一P型有源区的表面设置有第一接触孔,所述第二P型有源区的表面设置有第二接触孔,所述第一接触孔内侧与所述第二接触孔内侧之间构成感光区;位于所述第一P型有源区左侧的N型阱区内还设置有第一N型重掺杂区域,位于所述第二P型有源区右侧的N型阱区内还设置有第二N型重掺杂区域;所述第一N型重掺杂区域的表面设置有第三接触孔,所述第二N型重掺杂区域的表面设置有第四接触孔;位于所述第一N型重掺杂区域左侧的P型衬底中设置有第三P型重掺杂区域,位于所述第二N型重掺杂区域右侧的P型衬底中设置有第四P型重掺杂区域;所述第三P型重掺杂区域的表面设置有第五接触孔,所述第四P型重掺杂区域的表面设置有第六接触孔。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司,未经上海华力微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310506692.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top